Анализ микроструктуры пленок на основе оксинитридов титана, осажденных методом реактивного магнетронного распыления

Анализ микроструктуры пленок на основе оксинитридов титана, осажденных методом реактивного магнетронного распыления

Bibliographic Details
Parent link:	Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIV Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2017 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2017 Т. 1 : Физика.— 2017.— [С. 423-425]
Main Author:	Сунь Чжилэй
Corporate Author:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ)
Other Authors:	Конищев М. Е. Максим Евгеньевич (727), Пустовалова А. А. Алла Александровна, Пичугин В. Ф. Владимир Федорович
Summary:	Заглавие с экрана This paper presents the structure analysis results of TiOxNy films, deposited using reactive magnetron sputtering with different O2/N2 flow ratio. The impact of increase of N2 flow upon the films structure has been studied. The analysis was carried out by X-ray diffraction method. The lattice parameters and phase composition were calculated using PowderCell 2.4.
Published:	2017
Subjects:	труды учёных ТПУ электронный ресурс биосовместимость имплантаты медицинское материаловедение гладкомышечные клетки гемосовместимость
Online Access:	http://earchive.tpu.ru/handle/11683/41501
Format:	Electronic Book Chapter
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=622725

Internet

http://earchive.tpu.ru/handle/11683/41501