Нанесение покрытия zrticu на заэвтектический силумин (20-22 вес.% Si) ионно-плазменным методом; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

Нанесение покрытия zrticu на заэвтектический силумин (20-22 вес.% Si) ионно-плазменным методом; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

Detalles Bibliográficos
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIV Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2017 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2017
Т. 1 : Физика.— 2017.— [С. 306-308]
Autor Principal: Рыгина М. Е.
Autor Corporativo: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра теоретической и экспериментальной физики (ТиЭФ) Центр технологий (ЦТ)
Outros autores: Петрикова Е. А. (научный руководитель), Шугуров В. В. Владимир Викторович, Иванов Ю. Ф. Юрий Федорович
Summary:Заглавие с экрана
In this article hyptreutectic silumin has been studied. The content of silicon is 20-22 wt.%. TiZrCu has been repositioned on this alloy. His thickness is 1 micron. Deposition performed by “TRIO”( Institute of High Current Electrons of the Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences). In this article the structures before and after modification are shown. Microhardness grows more than 2 times, Nanohardness more than 5 times. Scanning microscopy shows that content of Ti, Zr, Cu are near 1%.
Idioma:ruso
Publicado: 2017
Subjects:
труды учёных ТПУ
электронный ресурс
заэвтектический силумин
кремний
интерметаллиды
ионно-плазменная обработка
изучение
Acceso en liña:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/41468
Formato: Electrónico Capítulo de libro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=622695

Títulos similares

Títulos similares