Нанесение покрытия zrticu на заэвтектический силумин (20-22 вес.% Si) ионно-плазменным методом; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIV Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2017 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2017 Т. 1 : Физика.— 2017.— [С. 306-308] |
|---|---|
| المؤلف الرئيسي: | |
| مؤلف مشترك: | |
| مؤلفون آخرون: | , , |
| الملخص: | Заглавие с экрана In this article hyptreutectic silumin has been studied. The content of silicon is 20-22 wt.%. TiZrCu has been repositioned on this alloy. His thickness is 1 micron. Deposition performed by “TRIO”( Institute of High Current Electrons of the Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences). In this article the structures before and after modification are shown. Microhardness grows more than 2 times, Nanohardness more than 5 times. Scanning microscopy shows that content of Ti, Zr, Cu are near 1%. |
| اللغة: | الروسية |
| منشور في: |
2017
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/41468 |
| التنسيق: | الكتروني فصل الكتاب |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=622695 |
MARC
| LEADER | 00000naa2a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 622695 | ||
| 005 | 20260803101326.0 | ||
| 035 | |a (RuTPU)RU\TPU\conf\21497 | ||
| 035 | |a RU\TPU\conf\21496 | ||
| 090 | |a 622695 | ||
| 100 | |a 20170704d2017 k y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | |a rus | |
| 102 | |a RU | ||
| 135 | |a drcn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | |a i | |
| 182 | 0 | |a b | |
| 200 | 1 | |a Нанесение покрытия zrticu на заэвтектический силумин (20-22 вес.% Si) ионно-плазменным методом |d Coating deposition tizrcu on hyperuetectic silumin by ion-plasma method |f М. Е. Рыгина, Е. А. Петрикова, В. В. Шугуров |g науч. рук. Ю. Ф. Иванов | |
| 203 | |a Текст |c электронный | ||
| 300 | |a Заглавие с экрана | ||
| 320 | |a [Библиогр.: с. 308 (3 назв.)] | ||
| 330 | |a In this article hyptreutectic silumin has been studied. The content of silicon is 20-22 wt.%. TiZrCu has been repositioned on this alloy. His thickness is 1 micron. Deposition performed by “TRIO”( Institute of High Current Electrons of the Siberian Branch of the Russian Academy of Sciences). In this article the structures before and after modification are shown. Microhardness grows more than 2 times, Nanohardness more than 5 times. Scanning microscopy shows that content of Ti, Zr, Cu are near 1%. | ||
| 461 | 1 | |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\21388 |t Перспективы развития фундаментальных наук |l Prospects of Fundamental Sciences Development |o сборник научных трудов XIV Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 25-28 апреля 2017 г. |o в 7 т. |f Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой |d 2017 | |
| 463 | 1 | |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\21389 |t Т. 1 : Физика |v [С. 306-308] |d 2017 | |
| 510 | 1 | |a Coating deposition tizrcu on hyperuetectic silumin by ion-plasma method |z eng | |
| 610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | |a электронный ресурс | |
| 610 | 1 | |a заэвтектический силумин | |
| 610 | 1 | |a кремний | |
| 610 | 1 | |a интерметаллиды | |
| 610 | 1 | |a ионно-плазменная обработка | |
| 610 | 1 | |a изучение | |
| 700 | 1 | |a Рыгина |b М. Е. | |
| 701 | 1 | |a Петрикова |b Е. А. | |
| 701 | 1 | |a Шугуров |b В. В. |c физик |c научный сотрудник Томского политехнического университета |f 1981- |g Владимир Викторович |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\37385 | |
| 702 | 1 | |a Иванов |b Ю. Ф. |c физик |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук |f 1955- |g Юрий Федорович |4 727 | |
| 712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |b Физико-технический институт (ФТИ) |b Кафедра теоретической и экспериментальной физики (ТиЭФ) |b Центр технологий (ЦТ) |3 (RuTPU)RU\TPU\col\20620 |
| 801 | 2 | |a RU |b 63413507 |c 20170718 |g RCR | |
| 856 | 4 | |u http://earchive.tpu.ru/handle/11683/41468 | |
| 942 | |c CF | ||