Highly selective deposition of CVD diamond on si wafers by using a combined technique of photolithography and ion etching

Bibliographic Details
Parent link:	Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE-2016): International Congress, October 2–7, 2016, Tomsk, Russia/ National Research Tomsk Polytechnic University (TPU) ; eds. B. M. Kovalchuk [et al.]. [P. 351].— , 2016
Main Author:	Okhotnikov V. V. Vitaly Vladimirovich
Corporate Author:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1
Other Authors:	Linnik S. A. Stepan Andreevich, Gaydaychuk A. V. Alexander Valerievich
Summary:	Title screen
Published:	2016
Subjects:	труды учёных ТПУ электронный ресурс осаждение алмазы фотолитография ионное травление CVD diamond catings glow discharge plasma selective deposition structure
Online Access:	http://earchive.tpu.ru/handle/11683/35867
Format:	Electronic Book Chapter
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=621409

Internet