Characterzations of nitrogen-doped titanium dioxide films prepared by reactive magnetron sputtering deposition

Characterzations of nitrogen-doped titanium dioxide films prepared by reactive magnetron sputtering deposition

Chi tiết về thư mục
Parent link:Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE-2016): International Congress, October 2–7, 2016, Tomsk, Russia/ National Research Tomsk Polytechnic University (TPU) ; eds. B. M. Kovalchuk [et al.]. [P. 321].— , 2016
Tác giả chính: Pichugin V. F. Vladimir Fyodorovich
Tác giả của công ty: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра экспериментальной физики (ЭФ)
Tác giả khác: Pustovalova A. A. Alla Aleksandrovna
Tóm tắt:Title screen
Được phát hành: 2016
Những chủ đề:
труды учёных ТПУ
электронный ресурс
легирование
азот
пленки
диоксид титана
осаждение
реактивное распыление
магнетронное распыление
магнетроны
magnetron
sputtering
TiON films
Truy cập trực tuyến:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/35857
Định dạng: Điện tử Chương của sách
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=621400
Miêu tả
Tóm tắt:Title screen

Những quyển sách tương tự