Исследование воздействия реактивного ионного и плазмохимического травления на морфологию поверхности алмазных покрытий; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

Исследование воздействия реактивного ионного и плазмохимического травления на морфологию поверхности алмазных покрытий; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

Detaylı Bibliyografya
Parent link:	Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2016 Т. 1 : Физика.— 2016.— [С. 205-207]
Yazar:	Охотников В. В. Виталий Владимирович
Müşterek Yazar:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1
Diğer Yazarlar:	Линник С. А. Степан Андреевич (научный руководитель), Гайдайчук А. В. Александр Валерьевич
Özet:	Заглавие с титульного экрана The effect of treatment by reactive ion etching in an argon atmosphere, and hydrogen plasma etching ina glow discharge plasma on the surface of the diamond films deposited by CVD method was investigated. Basedon the results of the research, changes in the surface morphology of the coatings and phase composition was analyzed, the processes occurring in the processing was researched.
Dil:	Rusça
Baskı/Yayın Bilgisi:	2016
Konular:	труды учёных ТПУ электронный ресурс алмазные покрытия полупроводниковая электроника теплопроводность оптические элементы плазмохимическое травление
Online Erişim:	http://earchive.tpu.ru/handle/11683/26019
Materyal Türü:	Elektronik Kitap Bölümü
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=618120

Internet

http://earchive.tpu.ru/handle/11683/26019