Исследование воздействия реактивного ионного и плазмохимического травления на морфологию поверхности алмазных покрытий; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2016 Т. 1 : Физика.— 2016.— [С. 205-207] |
|---|---|
| 1. autor: | |
| Korporacja: | |
| Kolejni autorzy: | , |
| Streszczenie: | Заглавие с титульного экрана The effect of treatment by reactive ion etching in an argon atmosphere, and hydrogen plasma etching ina glow discharge plasma on the surface of the diamond films deposited by CVD method was investigated. Basedon the results of the research, changes in the surface morphology of the coatings and phase composition was analyzed, the processes occurring in the processing was researched. |
| Język: | rosyjski |
| Wydane: |
2016
|
| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/26019 |
| Format: | Elektroniczne Rozdział |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=618120 |