Исследование воздействия реактивного ионного и плазмохимического травления на морфологию поверхности алмазных покрытий

Bibliographic Details
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2016
Т. 1 : Физика.— 2016.— [С. 205-207]
Main Author: Охотников В. В. Виталий Владимирович
Corporate Author: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1
Other Authors: Линник С. А. Степан Андреевич (727), Гайдайчук А. В. Александр Валерьевич
Summary:Заглавие с титульного экрана
The effect of treatment by reactive ion etching in an argon atmosphere, and hydrogen plasma etching ina glow discharge plasma on the surface of the diamond films deposited by CVD method was investigated. Basedon the results of the research, changes in the surface morphology of the coatings and phase composition was analyzed, the processes occurring in the processing was researched.
Published: 2016
Subjects:
Online Access:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/26019
Format: Electronic Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=618120