Исследование воздействия реактивного ионного и плазмохимического травления на морфологию поверхности алмазных покрытий; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

التفاصيل البيبلوغرافية
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2016
Т. 1 : Физика.— 2016.— [С. 205-207]
المؤلف الرئيسي: Охотников В. В. Виталий Владимирович
مؤلف مشترك: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1
مؤلفون آخرون: Линник С. А. Степан Андреевич (научный руководитель), Гайдайчук А. В. Александр Валерьевич
الملخص:Заглавие с титульного экрана
The effect of treatment by reactive ion etching in an argon atmosphere, and hydrogen plasma etching ina glow discharge plasma on the surface of the diamond films deposited by CVD method was investigated. Basedon the results of the research, changes in the surface morphology of the coatings and phase composition was analyzed, the processes occurring in the processing was researched.
اللغة:الروسية
منشور في: 2016
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/26019
التنسيق: الكتروني فصل الكتاب
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=618120