Исследование воздействия реактивного ионного и плазмохимического травления на морфологию поверхности алмазных покрытий; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2016 Т. 1 : Физика.— 2016.— [С. 205-207] |
|---|---|
| Κύριος συγγραφέας: | |
| Συγγραφή απο Οργανισμό/Αρχή: | |
| Άλλοι συγγραφείς: | , |
| Περίληψη: | Заглавие с титульного экрана The effect of treatment by reactive ion etching in an argon atmosphere, and hydrogen plasma etching ina glow discharge plasma on the surface of the diamond films deposited by CVD method was investigated. Basedon the results of the research, changes in the surface morphology of the coatings and phase composition was analyzed, the processes occurring in the processing was researched. |
| Γλώσσα: | Ρωσικά |
| Έκδοση: |
2016
|
| Θέματα: | |
| Διαθέσιμο Online: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/26019 |
| Μορφή: | Ηλεκτρονική πηγή Κεφάλαιο βιβλίου |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=618120 |
MARC
| LEADER | 00000naa2a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 618120 | ||
| 005 | 20260908162848.0 | ||
| 035 | |a (RuTPU)RU\TPU\conf\16501 | ||
| 035 | |a RU\TPU\conf\16500 | ||
| 090 | |a 618120 | ||
| 100 | |a 20160523d2016 k y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | |a rus | |
| 102 | |a RU | ||
| 135 | |a drcn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | |a i | |
| 182 | 0 | |a b | |
| 200 | 1 | |a Исследование воздействия реактивного ионного и плазмохимического травления на морфологию поверхности алмазных покрытий |d The research of reactive ion and plasma-chemical etching effect on a diamond coatings surface morphology |f В. В. Охотников, С. А. Линник, А. В. Гайдайчук |g науч. рук. С. А. Линник | |
| 203 | |a Текст |c электронный | ||
| 300 | |a Заглавие с титульного экрана | ||
| 320 | |a [Библиогр.: с. 207 (7 назв.)] | ||
| 330 | |a The effect of treatment by reactive ion etching in an argon atmosphere, and hydrogen plasma etching ina glow discharge plasma on the surface of the diamond films deposited by CVD method was investigated. Basedon the results of the research, changes in the surface morphology of the coatings and phase composition was analyzed, the processes occurring in the processing was researched. | ||
| 461 | 1 | |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\16353 |t Перспективы развития фундаментальных наук |l Prospects of Fundamental Sciences Development |o сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г. |o в 7 т. |f Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой |d 2016 | |
| 463 | 0 | |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\16354 |t Т. 1 : Физика |v [С. 205-207] |d 2016 | |
| 510 | 1 | |a The research of reactive ion and plasma-chemical etching effect on a diamond coatings surface morphology |z eng | |
| 610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | |a электронный ресурс | |
| 610 | 1 | |a алмазные покрытия | |
| 610 | 1 | |a полупроводниковая электроника | |
| 610 | 1 | |a теплопроводность | |
| 610 | 1 | |a оптические элементы | |
| 610 | 1 | |a плазмохимическое травление | |
| 700 | 1 | |a Охотников |b В. В. |c физик |c инженер Томского политехнического университета |f 1992- |g Виталий Владимирович |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\36430 | |
| 701 | 1 | |a Линник |b С. А. |c физик |c инженер-исследователь Томского политехнического университета |f 1985- |g Степан Андреевич |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\28210 |9 13164 | |
| 701 | 1 | |a Гайдайчук |b А. В. |c российский физик |c аспирант, инженер-исследователь Томского политехнического университета |f 1984- |g Александр Валерьевич |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\28207 |9 13161 | |
| 702 | 1 | |a Линник |b С. А. |c физик |c инженер-исследователь Томского политехнического университета |f 1985- |g Степан Андреевич |4 727 | |
| 712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |b Институт физики высоких технологий (ИФВТ) |b Лаборатория № 1 |3 (RuTPU)RU\TPU\col\19035 |
| 801 | 2 | |a RU |b 63413507 |c 20160628 |g RCR | |
| 856 | 4 | |u http://earchive.tpu.ru/handle/11683/26019 | |
| 942 | |c BK | ||