Исследование воздействия реактивного ионного и плазмохимического травления на морфологию поверхности алмазных покрытий; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика

Detalles Bibliográficos
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of Fundamental Sciences Development: сборник научных трудов XIII Международной конференции студентов, аспирантов и молодых ученых, г. Томск, 26-29 апреля 2016 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. И. А. Курзиной, Г. А. Вороновой.— , 2016
Т. 1 : Физика.— 2016.— [С. 205-207]
Autor principal: Охотников В. В. Виталий Владимирович
Autor Corporativo: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт физики высоких технологий (ИФВТ) Лаборатория № 1
Otros Autores: Линник С. А. Степан Андреевич (научный руководитель), Гайдайчук А. В. Александр Валерьевич
Sumario:Заглавие с титульного экрана
The effect of treatment by reactive ion etching in an argon atmosphere, and hydrogen plasma etching ina glow discharge plasma on the surface of the diamond films deposited by CVD method was investigated. Basedon the results of the research, changes in the surface morphology of the coatings and phase composition was analyzed, the processes occurring in the processing was researched.
Lenguaje:ruso
Publicado: 2016
Materias:
Acceso en línea:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/26019
Formato: Electrónico Capítulo de libro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=618120
Descripción
Sumario:Заглавие с титульного экрана
The effect of treatment by reactive ion etching in an argon atmosphere, and hydrogen plasma etching ina glow discharge plasma on the surface of the diamond films deposited by CVD method was investigated. Basedon the results of the research, changes in the surface morphology of the coatings and phase composition was analyzed, the processes occurring in the processing was researched.