Распределение элементов в покрытиях нитрида титана, полученных вакуумно-дуговым осаждением с различным потенциалом смещения

Bibliografische gegevens
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук.— 2015.— [С. 302-304]
Hoofdauteur: Чжан Ле
Coauteur: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра общей физики (ОФ)
Andere auteurs: Кашкаров Е. Б. Егор Борисович (727)
Samenvatting:Заглавие с экрана
This paper is devoted to investigation of element distribution and microparticles formation during deposition of titanium nitride coatings by cathodic vacuum arc with pulsed bias voltage. The results revealed that with the increase in bias voltage from -100 to -300 V, Ti/N ratio and the quantity and size of microparticles decreased. Meanwhile, the uniform distribution of elements in TiN coatings was observed.
Taal:Russisch
Gepubliceerd in: 2015
Reeks:Физика
Onderwerpen:
Online toegang:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/19170
http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2015/C21/090.pdf
Formaat: Elektronisch Hoofdstuk
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=613001

Gelijkaardige items