Распределение элементов в покрытиях нитрида титана, полученных вакуумно-дуговым осаждением с различным потенциалом смещения

Bibliographic Details
Parent link:	Перспективы развития фундаментальных наук.— 2015.— [С. 302-304]
Main Author:	Чжан Ле
Corporate Author:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра общей физики (ОФ)
Other Authors:	Кашкаров Е. Б. Егор Борисович (727)
Summary:	Заглавие с экрана This paper is devoted to investigation of element distribution and microparticles formation during deposition of titanium nitride coatings by cathodic vacuum arc with pulsed bias voltage. The results revealed that with the increase in bias voltage from -100 to -300 V, Ti/N ratio and the quantity and size of microparticles decreased. Meanwhile, the uniform distribution of elements in TiN coatings was observed.
Language:	Russian
Published:	2015
Series:	Физика
Subjects:	электронный ресурс труды учёных ТПУ покрытия нитрид титана вакуумно-дуговое осаждение смещения
Online Access:	http://earchive.tpu.ru/handle/11683/19170 http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2015/C21/090.pdf
Format:	Electronic Book Chapter
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=613001

Internet