Распределение элементов в покрытиях нитрида титана, полученных вакуумно-дуговым осаждением с различным потенциалом смещения; Перспективы развития фундаментальных наук

Detalles Bibliográficos
Parent link:	Перспективы развития фундаментальных наук.— 2015.— [С. 302-304]
Autor Principal:	Чжан Ле
Autor Corporativo:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра общей физики (ОФ)
Outros autores:	Кашкаров Е. Б. Егор Борисович (научный руководитель)
Summary:	Заглавие с экрана This paper is devoted to investigation of element distribution and microparticles formation during deposition of titanium nitride coatings by cathodic vacuum arc with pulsed bias voltage. The results revealed that with the increase in bias voltage from -100 to -300 V, Ti/N ratio and the quantity and size of microparticles decreased. Meanwhile, the uniform distribution of elements in TiN coatings was observed.
Idioma:	ruso
Publicado:	2015
Series:	Физика
Subjects:	электронный ресурс труды учёных ТПУ покрытия нитрид титана вакуумно-дуговое осаждение смещения
Acceso en liña:	http://earchive.tpu.ru/handle/11683/19170 http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2015/C21/090.pdf
Formato:	Electrónico Capítulo de libro
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=613001

Internet