Распределение элементов в покрытиях нитрида титана, полученных вакуумно-дуговым осаждением с различным потенциалом смещения; Перспективы развития фундаментальных наук
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук.— 2015.— [С. 302-304] |
|---|---|
| Príomhchruthaitheoir: | |
| Údar corparáideach: | |
| Rannpháirtithe: | |
| Achoimre: | Заглавие с экрана This paper is devoted to investigation of element distribution and microparticles formation during deposition of titanium nitride coatings by cathodic vacuum arc with pulsed bias voltage. The results revealed that with the increase in bias voltage from -100 to -300 V, Ti/N ratio and the quantity and size of microparticles decreased. Meanwhile, the uniform distribution of elements in TiN coatings was observed. |
| Teanga: | Rúisis |
| Foilsithe / Cruthaithe: |
2015
|
| Sraith: | Физика |
| Ábhair: | |
| Rochtain ar líne: | http://earchive.tpu.ru/handle/11683/19170 http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2015/C21/090.pdf |
| Formáid: | Leictreonach Caibidil leabhair |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=613001 |
MARC
| LEADER | 00000naa2a2200000 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 613001 | ||
| 005 | 20260429142732.0 | ||
| 035 | |a (RuTPU)RU\TPU\conf\11132 | ||
| 035 | |a RU\TPU\conf\11130 | ||
| 090 | |a 613001 | ||
| 100 | |a 20150703d2015 k y0rusy50 ca | ||
| 101 | 0 | |a rus | |
| 102 | |a RU | ||
| 135 | |a drcn ---uucaa | ||
| 181 | 0 | |a i | |
| 182 | 0 | |a b | |
| 200 | 1 | |a Распределение элементов в покрытиях нитрида титана, полученных вакуумно-дуговым осаждением с различным потенциалом смещения |d The element distribution in titanium nitride coatings deposited by filtered cathodic vacuum arc with pulsed bias voltage |f Чжан Ле, Е. Б. Кашкаров |g науч. рук. Е. Б. Кашкаров | |
| 203 | |a Текст |c электронный | ||
| 215 | |a 1 файл(239 Кб) | ||
| 225 | 1 | |a Физика | |
| 300 | |a Заглавие с экрана | ||
| 320 | |a [Библиогр.: с. 304 (5 назв.)] | ||
| 330 | |a This paper is devoted to investigation of element distribution and microparticles formation during deposition of titanium nitride coatings by cathodic vacuum arc with pulsed bias voltage. The results revealed that with the increase in bias voltage from -100 to -300 V, Ti/N ratio and the quantity and size of microparticles decreased. Meanwhile, the uniform distribution of elements in TiN coatings was observed. | ||
| 337 | |a Adobe Reader | ||
| 463 | 1 | |0 (RuTPU)RU\TPU\conf\10376 |t Перспективы развития фундаментальных наук |l Prospects of fundamental sciences development |o сборник научных трудов XII Международной конференция студентов и молодых ученых, г. Томск, 21-24 апреля 2015 г. |f Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; Национальный исследовательский Томский государственный университет (ТГУ) ; Томский государственный архитектурно-строительный университет (ТГАСУ) ; Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники (ТУСУР) ; ред. кол. И. А. Курзина ; Г. А. Воронова ; С. А. Поробова |v [С. 302-304] |d 2015 | |
| 510 | 1 | |a The element distribution in titanium nitride coatings deposited by filtered cathodic vacuum arc with pulsed bias voltage |z eng | |
| 610 | 1 | |a электронный ресурс | |
| 610 | 1 | |a труды учёных ТПУ | |
| 610 | 1 | |a покрытия | |
| 610 | 1 | |a нитрид титана | |
| 610 | 1 | |a вакуумно-дуговое осаждение | |
| 610 | 1 | |a смещения | |
| 700 | 0 | |a Чжан Ле | |
| 701 | 1 | |a Кашкаров |b Е. Б. |c физик |c доцент, научный сотрудник Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук |f 1991- |g Егор Борисович |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\30728 |9 14999 | |
| 702 | 1 | |a Кашкаров |b Е. Б. |c специалист в области физики |c высококвалифицированный рабочий Томского политехнического университета |f 1991- |g Егор Борисович |4 727 | |
| 712 | 0 | 2 | |a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) |b Физико-технический институт (ФТИ) |b Кафедра общей физики (ОФ) |3 (RuTPU)RU\TPU\col\18734 |
| 801 | 1 | |a RU |b 63413507 |c 20101016 | |
| 801 | 2 | |a RU |b 63413507 |c 20210128 |g RCR | |
| 856 | 4 | |u http://earchive.tpu.ru/handle/11683/19170 | |
| 856 | 4 | |u http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2015/C21/090.pdf | |
| 942 | |c BK | ||