Распределение примесных ионов в поверхностных слоях диэлектриков, модифицированных ионными пучками

Распределение примесных ионов в поверхностных слоях диэлектриков, модифицированных ионными пучками

Bibliographic Details
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук.— 2015.— [С. 206-208]
Main Author: Перминов А. А.
Corporate Author: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Институт неразрушающего контроля (ИНК) Проблемная научно-исследовательская лаборатория электроники, диэлектриков и полупроводников (ПНИЛ ЭДиП)
Other Authors: Чернявский А. В. Александр Викторович (727)
Summary:Заглавие с экрана
The results of studies of impurity ions distribution in surface layers of dielectric modified by ion beams are presented. Depth profiles were measured by secondary ion mass spectrometry method. Computer simulations of the expected ion depth profile were carried out using the TRIM program. The alumina ceramic implanted with Ti ions at energy 50 keV and zirconium ceramic implanted with Al ions at energy 78 keV were investigated in our work.
Language:Russian
Published: 2015
Series:Физика
Subjects:
электронный ресурс
труды учёных ТПУ
примесные ионы
поверхностные слои
диэлектрики
ионные пучки
Online Access:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/19147
http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2015/C21/058.pdf
Format: Electronic Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=612960

Internet

http://earchive.tpu.ru/handle/11683/19147
http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2015/C21/058.pdf

Similar Items