Исследование влияния отрицательного смещения подложки на параметры плазмы ВЧ-магнетронного распыления методом двойного зонда Ленгмюра; Функциональные материалы: разработка, исследование, применение

Bibliografiset tiedot
Parent link:	Функциональные материалы: разработка, исследование, применение.— 2014.— [С. 75]
Päätekijä:	Мухаметкалиев Т. М. Тимур Мухамедрашидович
Yhteisötekijä:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра теоретической и экспериментальной физики (ТиЭФ)
Muut tekijät:	Мельников Е. С. Евгений Сергеевич (научный руководитель), Сурменев Р. А. Роман Анатольевич
Yhteenveto:	Заглавие с титульного экрана
Kieli:	venäjä
Julkaistu:	2014
Sarja:	Материалы для медицины и экологии
Aiheet:	труды учёных ТПУ электронный ресурс отрицательное смещение подложки плазма ВЧ-распыление магнетронное распыление зонды Ленгмюра
Linkit:	http://earchive.tpu.ru/handle/11683/70075 http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2014/C96/073.pdf
Aineistotyyppi:	Elektroninen Kirjan osa
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=611610

Internet