Исследование влияния парциального давления на спектральный состав и процесс распыления реактивного магнетронного разряда плазмы при распылении мишени титана; Перспективы развития фундаментальных наук

Dettagli Bibliografici
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук.— 2014.— [С. 262-264]
Autore principale: Сунь Чжилэй
Ente Autore: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра теоретической и экспериментальной физики (ТиЭФ)
Altri autori: Конищев М. Е. Максим Евгеньевич (научный руководитель), Пустовалова А. А. Алла Александровна, Пичугин В. Ф. Владимир Федорович
Riassunto:Заглавие с экрана
This paper presents the study of the spectral composition of the plasma reactive magnetron discharge and the effect of the concentration of the working gas on the sputtering process. Control of the thin film synthesis was carried out using plasma emission spectrometer AvaSpec 3648. Line identification of optical spectra was realized using NIST database.
Lingua:russo
Pubblicazione: 2014
Serie:Физика
Soggetti:
Accesso online:http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2014/C21/083.pdf
Natura: Elettronico Capitolo di libro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=606890

Documenti analoghi