Исследование влияния парциального давления на спектральный состав и процесс распыления реактивного магнетронного разряда плазмы при распылении мишени титана; Перспективы развития фундаментальных наук

Dades bibliogràfiques
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук.— 2014.— [С. 262-264]
Autor principal: Сунь Чжилэй
Autor corporatiu: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра теоретической и экспериментальной физики (ТиЭФ)
Altres autors: Конищев М. Е. Максим Евгеньевич (научный руководитель), Пустовалова А. А. Алла Александровна, Пичугин В. Ф. Владимир Федорович
Sumari:Заглавие с экрана
This paper presents the study of the spectral composition of the plasma reactive magnetron discharge and the effect of the concentration of the working gas on the sputtering process. Control of the thin film synthesis was carried out using plasma emission spectrometer AvaSpec 3648. Line identification of optical spectra was realized using NIST database.
Idioma:rus
Publicat: 2014
Col·lecció:Физика
Matèries:
Accés en línia:http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2014/C21/083.pdf
Format: Electrònic Capítol de llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=606890

Ítems similars