Исследование влияния парциального давления на спектральный состав и процесс распыления реактивного магнетронного разряда плазмы при распылении мишени титана

Исследование влияния парциального давления на спектральный состав и процесс распыления реактивного магнетронного разряда плазмы при распылении мишени титана

Bibliographic Details
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук.— 2014.— [С. 262-264]
Main Author: Сунь Чжилэй
Corporate Author: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра теоретической и экспериментальной физики (ТиЭФ)
Other Authors: Конищев М. Е. Максим Евгеньевич (727), Пустовалова А. А. Алла Александровна, Пичугин В. Ф. Владимир Федорович
Summary:Заглавие с экрана
This paper presents the study of the spectral composition of the plasma reactive magnetron discharge and the effect of the concentration of the working gas on the sputtering process. Control of the thin film synthesis was carried out using plasma emission spectrometer AvaSpec 3648. Line identification of optical spectra was realized using NIST database.
Language:Russian
Published: 2014
Series:Физика
Subjects:
электронный ресурс
труды учёных ТПУ
парциальное давление
спектральный состав
распыление
магнетронные разряды
плазма
мишени
титан
Online Access:http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2014/C21/083.pdf
Format: Electronic Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=606890

Internet

http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2014/C21/083.pdf

Similar Items