|
|
|
|
| LEADER |
00000naa2a2200000 4500 |
| 001 |
606890 |
| 005 |
20260306112350.0 |
| 035 |
|
|
|a (RuTPU)RU\TPU\conf\4269
|
| 035 |
|
|
|a RU\TPU\conf\4264
|
| 090 |
|
|
|a 606890
|
| 100 |
|
|
|a 20140619d2014 k y0rusy50 ca
|
| 101 |
0 |
|
|a rus
|
| 102 |
|
|
|a RU
|
| 135 |
|
|
|a drcn ---uucaa
|
| 181 |
|
0 |
|a i
|
| 182 |
|
0 |
|a b
|
| 200 |
1 |
|
|a Исследование влияния парциального давления на спектральный состав и процесс распыления реактивного магнетронного разряда плазмы при распылении мишени титана
|d The stady of partial pressure influence on spectral composition and sputtering process of the reactive magnetron plasma discharge at sputtering of titanium target
|f Сунь Чжилэй, М. Е. Конищев, А. А. Пустовалова
|g науч. рук. В. Ф. Пичугин
|
| 203 |
|
|
|a Текст
|c электронный
|
| 215 |
|
|
|a 1 файл(380 Кб)
|
| 225 |
1 |
|
|a Физика
|
| 300 |
|
|
|a Заглавие с экрана
|
| 320 |
|
|
|a [Библиогр.: с. 264 (6 назв.)]
|
| 330 |
|
|
|a This paper presents the study of the spectral composition of the plasma reactive magnetron discharge and the effect of the concentration of the working gas on the sputtering process. Control of the thin film synthesis was carried out using plasma emission spectrometer AvaSpec 3648. Line identification of optical spectra was realized using NIST database.
|
| 337 |
|
|
|a Adobe Reader
|
| 463 |
|
1 |
|0 (RuTPU)RU\TPU\conf\3586
|t Перспективы развития фундаментальных наук
|l Prospects of fundamental sciences development
|o сборник научных трудов XI Международной конференция студентов и молодых ученых, г. Томск, 22-25 апреля 2014 г.
|f Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; под ред. Е. А. Вайтулевич
|v [С. 262-264]
|d 2014
|
| 510 |
1 |
|
|a The stady of partial pressure influence on spectral composition and sputtering process of the reactive magnetron plasma discharge at sputtering of titanium target
|z eng
|
| 610 |
1 |
|
|a электронный ресурс
|
| 610 |
1 |
|
|a труды учёных ТПУ
|
| 610 |
1 |
|
|a парциальное давление
|
| 610 |
1 |
|
|a спектральный состав
|
| 610 |
1 |
|
|a распыление
|
| 610 |
1 |
|
|a магнетронные разряды
|
| 610 |
1 |
|
|a плазма
|
| 610 |
1 |
|
|a мишени
|
| 610 |
1 |
|
|a титан
|
| 700 |
|
0 |
|a Сунь Чжилэй
|c физик
|c инженер-исследователь Томского политехнического университета
|f 1992-
|3 (RuTPU)RU\TPU\pers\46146
|
| 701 |
|
1 |
|a Конищев
|b М. Е.
|c физик
|c старший преподаватель Томского политехнического университета
|f 1987-
|g Максим Евгеньевич
|3 (RuTPU)RU\TPU\pers\27837
|9 12872
|
| 701 |
|
1 |
|a Пустовалова
|b А. А.
|c биофизик
|c инженер Томского политехнического университета
|f 1989-
|g Алла Александровна
|3 (RuTPU)RU\TPU\pers\31045
|
| 702 |
|
1 |
|a Пичугин
|b В. Ф.
|c российский физик
|c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук
|f 1944-
|g Владимир Федорович
|4 727
|
| 712 |
0 |
2 |
|a Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ)
|b Физико-технический институт (ФТИ)
|b Кафедра теоретической и экспериментальной физики (ТиЭФ)
|3 (RuTPU)RU\TPU\col\18726
|
| 801 |
|
1 |
|a RU
|b 63413507
|c 20101016
|
| 801 |
|
2 |
|a RU
|b 63413507
|c 20200828
|g RCR
|
| 856 |
4 |
|
|u http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2014/C21/083.pdf
|
| 942 |
|
|
|c CF
|
