Особенности накопления микрочастиц на потенциальной мишени, погруженной в плазму при малых временах облучения; Перспективы развития фундаментальных наук

Dades bibliogràfiques
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук.— 2013.— [С. 177-179]
Autor principal: Сивин Д. О. Денис Олегович
Autor corporatiu: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ)
Altres autors: Бумагина А. И. Анна Ивановна (научный руководитель), Медведев А. О., Каренгин А. Г. Александр Григорьевич
Sumari:Заглавие с экрана
It is found that the repetitively pulsed bias potential of negative polarity applied to the substrate immersed in the vacuum arc plasma provides the multiple decreasing of titanium microparticles quantity. The surface density reduction of microparticles by 12 times at the sample treatment for 2 minutes is achieved.
Idioma:rus
Publicat: 2013
Col·lecció:Физика
Matèries:
Accés en línia:http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2013/C21/056.pdf
Format: Electrònic Capítol de llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=603626

Ítems similars