Особенности накопления микрочастиц на потенциальной мишени, погруженной в плазму при малых временах облучения

Bibliographic Details
Parent link:	Перспективы развития фундаментальных наук.— 2013.— [С. 177-179]
Main Author:	Сивин Д. О. Денис Олегович
Corporate Author:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ)
Other Authors:	Бумагина А. И. Анна Ивановна (727), Медведев А. О., Каренгин А. Г. Александр Григорьевич
Summary:	Заглавие с экрана It is found that the repetitively pulsed bias potential of negative polarity applied to the substrate immersed in the vacuum arc plasma provides the multiple decreasing of titanium microparticles quantity. The surface density reduction of microparticles by 12 times at the sample treatment for 2 minutes is achieved.
Language:	Russian
Published:	2013
Series:	Физика
Subjects:	электронный ресурс труды учёных ТПУ накопление микрочастицы потенциальное применение плазма малые силы облучение
Online Access:	http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2013/C21/056.pdf
Format:	Electronic Book Chapter
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=603626

Internet