Особенности накопления микрочастиц на потенциальной мишени, погруженной в плазму при малых временах облучения
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук=Prospects of fundamental sciences development: сборник научных трудов X Международной конференция студентов и молодых ученых, г. Томск, 23-26 апреля 2013 г./ Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) ; ред. коллегия Е. А. Вайтулевич ; Г. А. Лямина ; Г. А. Воронова ; М. Е. Семенов ; А. В. Устинов ; Н. С. Пушилина. [С. 177-179].— , 2013 |
|---|---|
| প্রধান লেখক: | |
| সংস্থা লেখক: | |
| অন্যান্য লেখক: | , , |
| সংক্ষিপ্ত: | Заглавие с экрана It is found that the repetitively pulsed bias potential of negative polarity applied to the substrate immersed in the vacuum arc plasma provides the multiple decreasing of titanium microparticles quantity. The surface density reduction of microparticles by 12 times at the sample treatment for 2 minutes is achieved. |
| প্রকাশিত: |
2013
|
| মালা: | Физика |
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2013/C21/056.pdf |
| বিন্যাস: | বৈদ্যুতিক গ্রন্থের অধ্যায় |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=603626 |