Особенности накопления микрочастиц на потенциальной мишени, погруженной в плазму при малых временах облучения; Перспективы развития фундаментальных наук

Detaylı Bibliyografya
Parent link:	Перспективы развития фундаментальных наук.— 2013.— [С. 177-179]
Yazar:	Сивин Д. О. Денис Олегович
Müşterek Yazar:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ)
Diğer Yazarlar:	Бумагина А. И. Анна Ивановна (научный руководитель), Медведев А. О., Каренгин А. Г. Александр Григорьевич
Özet:	Заглавие с экрана It is found that the repetitively pulsed bias potential of negative polarity applied to the substrate immersed in the vacuum arc plasma provides the multiple decreasing of titanium microparticles quantity. The surface density reduction of microparticles by 12 times at the sample treatment for 2 minutes is achieved.
Dil:	Rusça
Baskı/Yayın Bilgisi:	2013
Seri Bilgileri:	Физика
Konular:	электронный ресурс труды учёных ТПУ накопление микрочастицы потенциальное применение плазма малые силы облучение
Online Erişim:	http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2013/C21/056.pdf
Materyal Türü:	Elektronik Kitap Bölümü
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=603626

Internet