Особенности накопления микрочастиц на потенциальной мишени, погруженной в плазму при малых временах облучения; Перспективы развития фундаментальных наук
| Parent link: | Перспективы развития фундаментальных наук.— 2013.— [С. 177-179] |
|---|---|
| מחבר ראשי: | |
| מחבר תאגידי: | |
| מחברים אחרים: | , , |
| סיכום: | Заглавие с экрана It is found that the repetitively pulsed bias potential of negative polarity applied to the substrate immersed in the vacuum arc plasma provides the multiple decreasing of titanium microparticles quantity. The surface density reduction of microparticles by 12 times at the sample treatment for 2 minutes is achieved. |
| שפה: | רוסית |
| יצא לאור: |
2013
|
| סדרה: | Физика |
| נושאים: | |
| גישה מקוונת: | http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2013/C21/056.pdf |
| פורמט: | אלקטרוני Book Chapter |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=603626 |