Особенности накопления микрочастиц на потенциальной мишени, погруженной в плазму при малых временах облучения; Перспективы развития фундаментальных наук

書誌詳細
Parent link:	Перспективы развития фундаментальных наук.— 2013.— [С. 177-179]
第一著者:	Сивин Д. О. Денис Олегович
団体著者:	Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ)
その他の著者:	Бумагина А. И. Анна Ивановна (научный руководитель), Медведев А. О., Каренгин А. Г. Александр Григорьевич
要約:	Заглавие с экрана It is found that the repetitively pulsed bias potential of negative polarity applied to the substrate immersed in the vacuum arc plasma provides the multiple decreasing of titanium microparticles quantity. The surface density reduction of microparticles by 12 times at the sample treatment for 2 minutes is achieved.
言語:	ロシア語
出版事項:	2013
シリーズ:	Физика
主題:	электронный ресурс труды учёных ТПУ накопление микрочастицы потенциальное применение плазма малые силы облучение
オンライン･アクセス:	http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2013/C21/056.pdf
フォーマット:	電子媒体図書の章
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=603626

インターネット