Влияние конфигурации магнитного поля дуальной МРС на свойства пленок нитрида титана

Bibliographic Details
Parent link:Перспективы развития фундаментальных наук.— 2013.— [С. 50-52]
Main Author: Бутько Я. А. Яна Александровна
Corporate Author: Национальный исследовательский Томский политехнический университет (ТПУ) Физико-технический институт (ФТИ) Кафедра водородной энергетики и плазменных технологий (ВЭПТ)
Other Authors: Сысоева К. С. (научный руководитель), Юрьев Ю. Н. Юрий Николаевич
Summary:Заглавие с экрана
In this work the process of deposition of TiN depending on the magnetic field configuration is considered. Also, the dependence of properties of TiN films on the partial pressure of nitrogen in the chamber is shows.
Language:Russian
Published: 2013
Series:Физика
Subjects:
Online Access:http://www.lib.tpu.ru/fulltext/c/2013/C21/011.pdf
Format: Electronic Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=603538
Description
Physical Description:1 файл(449 Кб)
Summary:Заглавие с экрана
In this work the process of deposition of TiN depending on the magnetic field configuration is considered. Also, the dependence of properties of TiN films on the partial pressure of nitrogen in the chamber is shows.