Устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц

Устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц

Bibliographic Details
Corporate Author: Томский политехнический университет (ТПУ) Научно-исследовательский институт ядерной физики (НИИ ЯФ)
Other Authors: Рябчиков А. И. Александр Ильич
Summary:опубл. 10.04.98
Устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц относится к плазменному нанесению покрытий и предназначено для улучшения качества покрытий, наносимых с помощью вакуумно-дуговых испарителей. Устр-во содержит жалюзную систему электродов, наклоненных к оси испарителя так, что электроды полностью перекрывают аппертуру испарителя. Электроды соединены между собой последовательно и встречно и подключены к источнику тока. Электроды могут быть выполнены из набора проводников, включенных последовательно и согласно в одной жалюзной пластине и встречно - в соседних, что уменьшает ток через систему. Для испарителей с большой рабочей поверхностью катода жалюзные пластины системы расположены под различными углами к оси испарителя. Большую прозрачность имеют жалюзные пластины, изогнутые по цилиндрич. поверхности, либо в виде двух плоскостей, состыкованных под тупым углом.
В фонде НТБ ТПУ отсутствует
Language:Russian
Published:
Subjects:
патенты
труды учёных ТПУ
Format: Book
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=599697

Similar Items

Similar Items