Формирование интерметаллидных слоев при высокоинтенсивной ионной имплантации

Формирование интерметаллидных слоев при высокоинтенсивной ионной имплантации

Bibliographic Details
Parent link:6 Белорусско-Польский симпозиум "Вакуумная техника и технологии": материалы 4 Международной конференции "Взаимодействие излучений с твердым телом", Минск, 3-5 окт., 2001. С. 291-293.— , 2001
Other Authors: Рябчиков А. И. Александр Ильич, Козлов Э. В., Шаркеев Ю. П., Фортуна С. В., Степанов И. Б., Шулепов И. А. Иван Анисимович, Курзина И. А. Ирина Александровна, Конева Н. А.
Summary:Представлены результаты эксперим. исследования по формированию интерметаллидов в поверхн. слое металлич. мишени при ионной имплантации. Для увеличения толщины ионно-легированного поверхн. слоя применена высокоинтенсивная ионная имплантация, позволяющая легировать поверхн. слои значительно большей толщины по сравнению с обычной ионной имплантацией. В качестве мишени был выбран чистый поликристаллич. никель, образцы которого облучались ионами алюминия на ионно-плазменном источнике "Радуга-5". Показано, что при высокоинтенсивной ионной имплантации в поверхн. слое алюминия толщиной 200 нм и более формируются мелкодисперсные интерметаллиды составов, близких к Ni3Al, NiAl, а также твердый раствор Al в Ni. Образование фаз идет в полном в соответствии с фазовой диаграммой Ni-Al. В ионно-легированном слое имеет место высокий уровень остаточных напряжений
В фонде НТБ ТПУ отсутствует
Published: 2001
Subjects:
труды учёных ТПУ
Format: Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=599378

Similar Items

Similar Items