Формирование интерметаллидных слоев при высокоинтенсивной ионной имплантации; 6 Белорусско-Польский симпозиум "Вакуумная техника и технологии"

Bibliographic Details
Parent link:6 Белорусско-Польский симпозиум "Вакуумная техника и технологии".— 2001.— С. 291-293
Other Authors: Рябчиков А. И. Александр Ильич, Козлов Э. В., Шаркеев Ю. П., Фортуна С. В., Степанов И. Б., Шулепов И. А. Иван Анисимович, Курзина И. А. Ирина Александровна, Конева Н. А.
Summary:Представлены результаты эксперим. исследования по формированию интерметаллидов в поверхн. слое металлич. мишени при ионной имплантации. Для увеличения толщины ионно-легированного поверхн. слоя применена высокоинтенсивная ионная имплантация, позволяющая легировать поверхн. слои значительно большей толщины по сравнению с обычной ионной имплантацией. В качестве мишени был выбран чистый поликристаллич. никель, образцы которого облучались ионами алюминия на ионно-плазменном источнике "Радуга-5". Показано, что при высокоинтенсивной ионной имплантации в поверхн. слое алюминия толщиной 200 нм и более формируются мелкодисперсные интерметаллиды составов, близких к Ni3Al, NiAl, а также твердый раствор Al в Ni. Образование фаз идет в полном в соответствии с фазовой диаграммой Ni-Al. В ионно-легированном слое имеет место высокий уровень остаточных напряжений
В фонде НТБ ТПУ отсутствует
Language:Russian
Published: 2001
Subjects:
Format: Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=599378