Формирование интерметаллидных слоев при высокоинтенсивной ионной имплантации; 6 Белорусско-Польский симпозиум "Вакуумная техника и технологии"

Detalles Bibliográficos
Parent link:6 Белорусско-Польский симпозиум "Вакуумная техника и технологии".— 2001.— С. 291-293
Outros autores: Рябчиков А. И. Александр Ильич, Козлов Э. В., Шаркеев Ю. П., Фортуна С. В., Степанов И. Б., Шулепов И. А. Иван Анисимович, Курзина И. А. Ирина Александровна, Конева Н. А.
Summary:Представлены результаты эксперим. исследования по формированию интерметаллидов в поверхн. слое металлич. мишени при ионной имплантации. Для увеличения толщины ионно-легированного поверхн. слоя применена высокоинтенсивная ионная имплантация, позволяющая легировать поверхн. слои значительно большей толщины по сравнению с обычной ионной имплантацией. В качестве мишени был выбран чистый поликристаллич. никель, образцы которого облучались ионами алюминия на ионно-плазменном источнике "Радуга-5". Показано, что при высокоинтенсивной ионной имплантации в поверхн. слое алюминия толщиной 200 нм и более формируются мелкодисперсные интерметаллиды составов, близких к Ni3Al, NiAl, а также твердый раствор Al в Ni. Образование фаз идет в полном в соответствии с фазовой диаграммой Ni-Al. В ионно-легированном слое имеет место высокий уровень остаточных напряжений
В фонде НТБ ТПУ отсутствует
Idioma:ruso
Publicado: 2001
Subjects:
Formato: Capítulo de libro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=599378

MARC

LEADER 00000naa0a2200000 4500
001 599378
005 20250417085253.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\tpu\23398 
035 |a RU\TPU\tpu\20382 
090 |a 599378 
100 |a 20130627d2001 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
200 1 |a Формирование интерметаллидных слоев при высокоинтенсивной ионной имплантации  |f А. И. Рябчиков [и др.] 
330 |a Представлены результаты эксперим. исследования по формированию интерметаллидов в поверхн. слое металлич. мишени при ионной имплантации. Для увеличения толщины ионно-легированного поверхн. слоя применена высокоинтенсивная ионная имплантация, позволяющая легировать поверхн. слои значительно большей толщины по сравнению с обычной ионной имплантацией. В качестве мишени был выбран чистый поликристаллич. никель, образцы которого облучались ионами алюминия на ионно-плазменном источнике "Радуга-5". Показано, что при высокоинтенсивной ионной имплантации в поверхн. слое алюминия толщиной 200 нм и более формируются мелкодисперсные интерметаллиды составов, близких к Ni3Al, NiAl, а также твердый раствор Al в Ni. Образование фаз идет в полном в соответствии с фазовой диаграммой Ni-Al. В ионно-легированном слое имеет место высокий уровень остаточных напряжений 
333 |a В фонде НТБ ТПУ отсутствует 
463 |t 6 Белорусско-Польский симпозиум "Вакуумная техника и технологии"  |o материалы 4 Международной конференции "Взаимодействие излучений с твердым телом", Минск, 3-5 окт., 2001  |v С. 291-293  |d 2001 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
701 1 |a Рябчиков  |b А. И.  |c физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1950-  |g Александр Ильич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\22006 
701 1 |a Козлов  |b Э. В. 
701 1 |a Шаркеев  |b Ю. П. 
701 1 |a Фортуна  |b С. В. 
701 1 |a Степанов  |b И. Б. 
701 1 |a Шулепов  |b И. А.  |c физик  |c старший научный сотрудник Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук  |f 1954-  |g Иван Анисимович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\28219 
701 1 |a Курзина  |b И. А.  |c химик  |c доцент Томского политехнического университета, кандидат химических наук  |f 1972-  |g Ирина Александровна  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\30829 
701 1 |a Конева  |b Н. А. 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20111213 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20130627  |g RCR 
850 |a 63413507 
942 |c BK