Влияние двойного легирования на совершенство эпитаксиальных пленок полупроводниковых кристаллов GaAs

التفاصيل البيبلوغرافية
Parent link:Физика и техника полупроводников: научный журнал/ Российская Академия наук.— , 1967-
Т. 15, вып. 10.— 1981.— С. 2037-2039
مؤلفون آخرون: Арефьев К. П. Константин Петрович, Климов В. Н., Мелев В. Г., Погребняк А. Д.
اللغة:الروسية
منشور في: 1981
الموضوعات:
التنسيق: فصل الكتاب
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=598312

MARC

LEADER 00000naa0a2200000 4500
001 598312
005 20250314154309.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\tpu\21912 
035 |a RU\TPU\tpu\21911 
090 |a 598312 
100 |a 20121019d1981 k||y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
200 1 |a Влияние двойного легирования на совершенство эпитаксиальных пленок полупроводниковых кристаллов GaAs  |f К. П. Арефьев [и др.] 
320 |a Библиогр.: с. 2039 (9 назв.) 
461 |t Физика и техника полупроводников  |o научный журнал  |f Российская Академия наук  |d 1967- 
463 |t Т. 15, вып. 10  |v С. 2037-2039  |d 1981 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
701 1 |a Арефьев  |b К. П.  |c физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |c член-корреспондент РАЕН  |f 1947-  |g Константин Петрович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\19765  |4 070  |9 7703 
701 1 |a Климов  |b В. Н. 
701 1 |a Мелев  |b В. Г. 
701 1 |a Погребняк  |b А. Д. 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20120913 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20121019  |g RCR 
942 |c CR