Исследование поведения кремния в эпитаксиальном арсениде галлия методом позитронной аннигиляции
| Parent link: | Физика и техника полупроводников: научный журнал/ Российская Академия наук.— , 1967- Т. 12, вып. 9.— 1978.— С. 1767-1770 |
|---|---|
| Other Authors: | , , , , , , |
| Language: | Russian |
| Published: |
1978
|
| Subjects: | |
| Format: | Book Chapter |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=598309 |