Формирование многослойных (TiAl)N/TiN-покрытий на титановых сплавах в условиях интенсивного ионного и электронного ассистирования; Известия вузов. Физика; Т. 54, № 11/2 (приложение)

Bibliografiske detaljer
Parent link:Известия вузов. Физика/ Министерство общего и профессионального образования Российской Федерации ; Томский Госуниверситет.— , 1958-
Т. 54, № 11/2 (приложение).— 2011.— С. 121-127
Andre forfattere: Рябчиков А. И. Александр Ильич, Степанов К. Б., Сивин Д. О. Денис Олегович, Шулепов И. А. Иван Анисимович, Дектярев С. В. Сергей Валентинович, Додорин К. Ю. Константин Юрьевич, Кочегуров В. А. Владимир Александрович
Summary:Предложен и реализован способ осаждения многослойных (TiAl)N/TiN-покрытий с использованием очищенной от микрокапельной фракции плазмы вакуумно-дугового и магнетронного разрядов в условиях интенсивного ионного и электронного ассистирования. Приведены результаты исследований ряда физико-механических характеристик сформированных многослойных наноструктурированных систем с толщиной отдельных слоев 100-300 нм. Показано, что покрытия характеризуются низким уровнем шероховатости поверхности, высокими твердостью, адгезионной прочностью и износостойкостью
Sprog:russisk
Udgivet: 2011
Fag:
Format: Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=507876

MARC

LEADER 00000naa2a2200000 4500
001 507876
005 20231101103535.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\prd\179617 
035 |a RU\TPU\prd\174327 
090 |a 507876 
100 |a 20130530a2011 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
200 1 |a Формирование многослойных (TiAl)N/TiN-покрытий на титановых сплавах в условиях интенсивного ионного и электронного ассистирования  |f А. И. Рябчиков [и др.] 
330 |a Предложен и реализован способ осаждения многослойных (TiAl)N/TiN-покрытий с использованием очищенной от микрокапельной фракции плазмы вакуумно-дугового и магнетронного разрядов в условиях интенсивного ионного и электронного ассистирования. Приведены результаты исследований ряда физико-механических характеристик сформированных многослойных наноструктурированных систем с толщиной отдельных слоев 100-300 нм. Показано, что покрытия характеризуются низким уровнем шероховатости поверхности, высокими твердостью, адгезионной прочностью и износостойкостью 
461 0 |0 (RuTPU)RU\TPU\prd\191  |t Известия вузов. Физика  |f Министерство общего и профессионального образования Российской Федерации ; Томский Госуниверситет  |d 1958- 
463 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\prd\165427  |t Т. 54, № 11/2 (приложение)  |v С. 121-127  |d 2011 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
701 1 |a Рябчиков  |b А. И.  |c физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1950-  |g Александр Ильич  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\22006 
701 1 |a Степанов  |b К. Б. 
701 1 |a Сивин  |b Д. О.  |c специалист в области физики плазмы  |c младший научный сотрудник Томского политехнического университета  |f 1978-  |g Денис Олегович  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\26465 
701 1 |a Шулепов  |b И. А.  |c физик  |c старший научный сотрудник Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук  |f 1954-  |g Иван Анисимович  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\28219 
701 1 |a Дектярев  |b С. В.  |c физик  |c инженер-проектировщик Томского политехнического университета  |f 1957-  |g Сергей Валентинович  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\33803 
701 1 |a Додорин  |b К. Ю.  |c специалист в области ускорительной техники  |c инженер Томского политехнического университета  |f 1982-  |g Константин Юрьевич  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\29639 
701 1 |a Кочегуров  |b В. А.  |c математик  |c профессор Томского политехнического университета  |f 1931-  |g Владимир Александрович  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\13833 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20130411 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20160630  |g RCR 
942 |c BK