Bibliografiset tiedot
| Parent link: | Известия вузов. Физика/ Министерство общего и профессионального образования Российской Федерации ; Томский Госуниверситет.— , 1958-
Т. 54, № 11/2 (приложение).— 2011.— С. 121-127 |
|---|
| Muut tekijät: |
Рябчиков А. И. Александр Ильич,
Степанов К. Б.,
Сивин Д. О. Денис Олегович,
Шулепов И. А. Иван Анисимович,
Дектярев С. В. Сергей Валентинович,
Додорин К. Ю. Константин Юрьевич,
Кочегуров В. А. Владимир Александрович |
|---|
| Yhteenveto: | Предложен и реализован способ осаждения многослойных (TiAl)N/TiN-покрытий с использованием очищенной от микрокапельной фракции плазмы вакуумно-дугового и магнетронного разрядов в условиях интенсивного ионного и электронного ассистирования. Приведены результаты исследований ряда физико-механических характеристик сформированных многослойных наноструктурированных систем с толщиной отдельных слоев 100-300 нм. Показано, что покрытия характеризуются низким уровнем шероховатости поверхности, высокими твердостью, адгезионной прочностью и износостойкостью |
|---|
| Kieli: | venäjä |
|---|
| Julkaistu: |
2011
|
|---|
| Aiheet: | |
|---|
| Aineistotyyppi: | Kirjan osa
|
|---|
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=507876 |
|---|
