Определение состава ионно-имплантированных поверхностных слоев MgO методом резерфордовского и резонансного обратного рассеяния ионов; Письма в Журнал технической физики; Т. 22, вып. 1

Dades bibliogràfiques
Parent link:Письма в Журнал технической физики/ Российская академия наук (РАН), Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе (ФТИ) ; Отделение общей физики и астрономии РАН.— , 1975-
Т. 22, вып. 1.— 1996.— С. 7-11
Altres autors: Заводчиков В. М., Кобзев А. П., Крючков Ю. Ю. Юрий Юрьевич, Пичугин В. Ф. Владимир Федорович, Сохорева В. В. Валентина Викторовна, Франгульян Т. С. Тамара Семёновна
Sumari:Представлены результаты исследования приповерхностных слоев <100> монокристаллов MgO, имплантированных ионами Fe (70 кэВ, 1016 см-2) и Al (60 кэВ, 1017 см-2) методом РОР ионов гелия и резонансного обратного рассеяния. Установлено, что в результате ионного облучения происходит преимущественное убывание кислорода (не зависящее от сорта и дозы внедряемых ионов), приводящее к отклонению от стехиометрии основного состава приповерхностных слоев исследованных кристаллов. Для формирования проводящего состояния ионно-облученных слоев диэлектрических кристаллов необходимым условием является изменение стехиометрии состава за счет преимущественного убывания кислорода
Idioma:rus
Publicat: 1996
Matèries:
Format: Capítol de llibre
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=506824

MARC

LEADER 00000naa2a2200000 4500
001 506824
005 20240208163456.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\prd\177955 
035 |a RU\TPU\prd\102460 
090 |a 506824 
100 |a 20130520a1996 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
200 1 |a Определение состава ионно-имплантированных поверхностных слоев MgO методом резерфордовского и резонансного обратного рассеяния ионов  |f В. М. Заводчиков [и др.] 
330 |a Представлены результаты исследования приповерхностных слоев <100> монокристаллов MgO, имплантированных ионами Fe (70 кэВ, 1016 см-2) и Al (60 кэВ, 1017 см-2) методом РОР ионов гелия и резонансного обратного рассеяния. Установлено, что в результате ионного облучения происходит преимущественное убывание кислорода (не зависящее от сорта и дозы внедряемых ионов), приводящее к отклонению от стехиометрии основного состава приповерхностных слоев исследованных кристаллов. Для формирования проводящего состояния ионно-облученных слоев диэлектрических кристаллов необходимым условием является изменение стехиометрии состава за счет преимущественного убывания кислорода 
461 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\prd\486  |t Письма в Журнал технической физики  |f Российская академия наук (РАН), Физико-технический институт им. А. Ф. Иоффе (ФТИ) ; Отделение общей физики и астрономии РАН  |d 1975- 
463 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\prd\102282  |t Т. 22, вып. 1  |v С. 7-11  |d 1996 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
701 1 |a Заводчиков  |b В. М. 
701 1 |a Кобзев  |b А. П. 
701 1 |a Крючков  |b Ю. Ю.  |c физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1945-  |g Юрий Юрьевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\25821  |9 11694 
701 1 |a Пичугин  |b В. Ф.  |c российский физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1944-  |g Владимир Федорович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\25824 
701 1 |a Сохорева  |b В. В.  |c физик  |c старший научный сотрудник Томского политехнического университета  |f 1944-  |g Валентина Викторовна  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\28149  |9 13107 
701 1 |a Франгульян  |b Т. С.  |c росиийскиё учёный в области электроники, диэлектриков и полупроводников  |c ведущий научный сотрудник Томского политехнического университета  |g Тамара Семёновна  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\26534 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20021105  |g PSBO 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20130520  |g RCR 
942 |c BK