Исследование закономерности формирования плазмы в большом объеме на основе эффекта полого катода с использованием высокочастотного короткоимпульсного напряжения; Известия вузов. Физика; Т. 54, № 11/2 (приложение)

গ্রন্থ-পঞ্জীর বিবরন
Parent link:Известия вузов. Физика/ Министерство общего и профессионального образования Российской Федерации ; Томский Госуниверситет.— , 1958-
Т. 54, № 11/2 (приложение).— 2011.— C. 90-93
অন্যান্য লেখক: Рябчиков А. И. Александр Ильич, Степанов И. Б. Игорь Борисович, Сивин Д. О. Денис Олегович, Додорин К. Ю. Константин Юрьевич, Шулепов И. А. Иван Анисимович
সংক্ষিপ্ত:Представлены закономерности формирования плазмы азота, аргона в полом катоде с объемом до 0,2-0,5 м{3 }с помощью короткоимпульсного (от 1 до 10 мкс) высокочастотного 100 кГц напряжения до 3 кВ. Показано, что несмотря на импульсный характер напряжения, газовый разряд стабильно горит при давлении 0,1 Па и выше, величина тока разряда и концентрация плазмы возрастают при увеличении длительности импульса напряжения, амплитуды напряжения, общий ток разряда достигает 10 А, обеспечивая плотность ионного тока насыщения на изделия, помещенные в плазму до 0,5 мА/см{2}. Экспериментально показана возможность осаждения сверхтвердого (45-50 ГПа) покрытия на основе нитрида титана внутри полого катода
ভাষা:রুশ
প্রকাশিত: 2011
বিষয়গুলি:
বিন্যাস: গ্রন্থের অধ্যায়
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=506112

MARC

LEADER 00000naa2a2200000 4500
001 506112
005 20240209124631.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\prd\176978 
035 |a RU\TPU\prd\176955 
090 |a 506112 
100 |a 20130430a2011 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
200 1 |a Исследование закономерности формирования плазмы в большом объеме на основе эффекта полого катода с использованием высокочастотного короткоимпульсного напряжения  |f А. И. Рябчиков [и др.] 
330 |a Представлены закономерности формирования плазмы азота, аргона в полом катоде с объемом до 0,2-0,5 м{3 }с помощью короткоимпульсного (от 1 до 10 мкс) высокочастотного 100 кГц напряжения до 3 кВ. Показано, что несмотря на импульсный характер напряжения, газовый разряд стабильно горит при давлении 0,1 Па и выше, величина тока разряда и концентрация плазмы возрастают при увеличении длительности импульса напряжения, амплитуды напряжения, общий ток разряда достигает 10 А, обеспечивая плотность ионного тока насыщения на изделия, помещенные в плазму до 0,5 мА/см{2}. Экспериментально показана возможность осаждения сверхтвердого (45-50 ГПа) покрытия на основе нитрида титана внутри полого катода 
461 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\prd\191  |t Известия вузов. Физика  |f Министерство общего и профессионального образования Российской Федерации ; Томский Госуниверситет  |d 1958- 
463 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\prd\165427  |t Т. 54, № 11/2 (приложение)  |v C. 90-93  |d 2011 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
701 1 |a Рябчиков  |b А. И.  |c физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1950-  |g Александр Ильич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\22006 
701 1 |a Степанов  |b И. Б.  |c физик  |c заведующий лабораторией Томского политехнического университета, доктор технических наук  |f 1968-  |g Игорь Борисович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\26466  |9 12169 
701 1 |a Сивин  |b Д. О.  |c специалист в области физики плазмы  |c младший научный сотрудник Томского политехнического университета  |f 1978-  |g Денис Олегович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\26465 
701 1 |a Додорин  |b К. Ю.  |c специалист в области ускорительной техники  |c инженер Томского политехнического университета  |f 1982-  |g Константин Юрьевич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\29639 
701 1 |a Шулепов  |b И. А.  |c физик  |c старший научный сотрудник Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук  |f 1954-  |g Иван Анисимович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\28219 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20050209  |g PSBO 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20160630  |g RCR 
942 |c BK