Удаление микрочастиц вакуумно-дугового разряда в процессе ионной имплантации и осаждения покрытия за счет применения короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения (анализ экспериментальных результатов); Известия вузов. Физика; Т. 54, № 11/2 (приложение)

Удаление микрочастиц вакуумно-дугового разряда в процессе ионной имплантации и осаждения покрытия за счет применения короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения (анализ экспериментальных результатов); Известия вузов. Физика; Т. 54, № 11/2 (приложение)

書目詳細資料
Parent link:	Известия вузов. Физика/ Министерство общего и профессионального образования Российской Федерации ; Томский Госуниверситет.— , 1958- Т. 54, № 11/2 (приложение).— 2011.— C. 137-141
其他作者:	Рябчиков А. И. Александр Ильич, Сивин Д. О. Денис Олегович, Степанов И. Б. Игорь Борисович, Ананьин П. С. Петр Семенович, Дектярев С. В. Сергей Валентинович, Шулепов И. А. Иван Анисимович
總結:	Рассматривается несколько физич. механизмов, обеспечивающих уменьшение плотности микрочастиц и трансформации их размеров и формы при применении короткоимпульсного ВЧ-потенциала смещения. Эффект отражения в электрич. поле разделения заряда вблизи потенциальной поверхности связан с наиболее низкоэнергитичными микрочастицами за счет накопления на них отрицат. заряда в плазме. Предположительно имеет место отражение микрочастиц, получивших значительный отрицат. заряд уже на потенциальной поверхности. Процессы разогрева микрочастиц, трансформации их размеров и формы определяются электрич. полем на поверхности, приводящим к появлению тока автоэлектронной эмиссии
語言:	俄语
出版:	2011
主題:	труды учёных ТПУ
格式:	Book Chapter
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=506091

相似書籍

Удаление микрочастиц вакуумно-дугового разряда в процессе ионной имплантации и осаждения покрытия за счет применения короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения (результаты исследования); Известия вузов. Физика; Т. 54, № 11/2 (приложение)
出版: (2011)

Удаление микрочастиц вакуумно-дугового разряда в процессе ионной имплантации и осаждения покрытия за счет применения короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения (оборудование и методы исследования); Известия вузов. Физика; Т. 54, № 11/2 (приложение)
出版: (2011)

Оборудование ионной имплантации
出版: (Москва, Радио и связь, 1988)

Водородопроницаемость покрытий нитрида титана, полученных методом вакуумно-дугового осаждения; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
由: Чжан Ле
出版: (2017)

Устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц
出版: ()

Устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц
出版: ()

Применение высокочастотного короткоимпульсного потенциала смещения для ионно-лучевой и плазменной обработки проводящих и диэлектрических материалов; Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]; Т. 316, № 4: Энергетика
由: Рябчиков А. И. Александр Ильич
出版: (2010)

Повышение стойкости инструмента методом ионной имплантации
由: Брюхов В. В.
出版: (Томск, Изд-во НТЛ, 2003)

Устройство для очистки плазмы дугового испарителя от микрочастиц (его варианты)
出版: ()

Влияние потенциала смещения на структуру и распределение элементов в покрытиях нитрида титана, полученных методом катодно-дугового осаждения; Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования; № 6
出版: (2016)

Исследование закономерности формирования плазмы в большом объеме с использованием высокочастотного короткоимпульсного напряжения; Известия вузов. Физика; Т. 55, № 11-2
出版: (2012)

Возможности повышения эффективности алмазного инструмента методом ионной имплантации; Современные проблемы машиностроения
由: Некрасова Т. В.
出版: (2008)

Магнетизм микрочастиц
由: Вонсовский С. В. Сергей Васильевич
出版: (Москва, Наука, 1973)

Магнетизм микрочастиц
由: Вонсовский С. В.
出版: (Москва, Мир, 1975)

Накопление микрочастиц вакуумной дуги на потенциальной мишени при короткоимпульсном высокочастотном потенциале смещения; Перспективы развития фундаментальных наук
由: Бумагина А. И. Анна Ивановна
出版: (2013)

Формирования плазмы в большом объеме на основе эффекта полого катода с использованием высокочастотного короткоимпульсного напряжения; Вестник науки Сибири; № 1 (1)
出版: (2011)

Управление свойствами режущей кромки инструмента методом ионной имплантации; Современные техника и технологии
由: Бригадин А. Г.
出版: (1997)

Управление свойствами режущей кромки инструмента методом ионной имплантации; Современные техника и технологии
由: Бригадин А. Г.
出版: (1997)

Метод ионной имплантации в технологии приборов и интегральных схем на арсениде галлия
由: Черняев А. В. Александр Владимирович
出版: (Москва, Радио и связь, 1990)

Наводороживание циркониевого сплава Э110 с покрытиями на основе нитрида титана, полученными методом катодно-дугового осаждения с различным потенциалом смещения; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
由: Прямушко Т. С. Татьяна Сергеевна
出版: (2016)

Вакуумно-дуговой частотно-импульсный источник ионов для имплантации; VI Всесоюзный симпозиум по сильноточной электронике; Ч. 3
由: Араубов Н. М.
出版: (1986)

Изменение поверхностных свойств изоляторов после ионной имплантации; Современные техника и технологии; Т. 1
由: Лебедь К. В.
出版: (2008)

Распределение элементов в покрытиях нитрида титана, полученных вакуумно-дуговым осаждением с различным потенциалом смещения; Перспективы развития фундаментальных наук
由: Чжан Ле
出版: (2015)

Повышение прочности рабочих поверхностей интструмента методом ионной имплантации; Современные техника и технологии; Т. 1
由: Солдатов А. К.
出版: (2008)

Влияние ионной имплантации инструмента на вид образующейся стружки; Современные техника и технологии; Т. 1
由: Ласуков А. А. Александр Александрович
出版: (2005)

Дислокацинные структуры приповерхностных слоев чистых металлов после ионной имплантации; Поверхность. Физика, химия, механика; № 3
出版: (1989)

Дислокационная структура в крупнозернистой меди после ионной имплантации; Физика и химия обработки материалов; № 4
出版: (1996)

Динамическая модель начальной стадии процесса ионной имплантации; Известия вузов. Физика; Т. 55, № 5-2
由: Демидов В. Н. Валерий Николаевич
出版: (2012)

Математическое моделирование начальной стадии процесса ионной имплантации; Известия вузов. Физика; Т. 58, № 6-2
由: Парфёнова Е. С. Елена Сергеевна
出版: (2015)

Высокочастотные характеристики пленок меди, осажденных на диэлектрическое основание методом вакуумно-дугового испарения; Высокие технологии, образование, промышленность; Т. 2
出版: (2011)

Рассеяние микрочастиц: учебное пособие
由: Шишкина Т. В. Татьяна Викентьевна
出版: (Минск, Изд-во Белорусского ГУ, 2008)

Фундаментальные вопросы ионной имплантации: материалы III Всесоюзной школы, 17-23 июня 1985 г., Алма-Ата
出版: (Алма-Ата, Наука, 1987)

Электронное строение и свойства облученного ионами оксида алюминия; Физические и физико-химические основы ионной имплантации
由: Кабышев А. В. Александр Васильевич
出版: (2004)

Электронно-микроскопические исследования микроструктуры поликристаллического железа после импульсной ионной имплантации углеродом; Радиационные дефекты в металлах
出版: (1988)

Формирование интерметаллидных слоев при высокоинтенсивной ионной имплантации; 6 Белорусско-Польский симпозиум "Вакуумная техника и технологии"
出版: (2001)

Исследование закономерности формирования плазмы в большом объеме на основе эффекта полого катода с использованием высокочастотного короткоимпульсного напряжения; Известия вузов. Физика; Т. 54, № 11/2 (приложение)
出版: (2011)

Вакуумно-компрессионные электрические печи
由: Лейканд М. С. Михаил Соломонович
出版: (Москва, Энергия, 1971)

Физика: волновые свойства микрочастиц лабораторный практикум
由: Алифанов О. В.
出版: (Москва, МИСИС, 2017)

Свойства покрытий TiAlN, полученных методом вакуумно-дугового испарения; Физико-технические проблемы в науке, промышленности и медицине (ФТПНПМ-2019)
由: Гусс Л. Е.
出版: (2019)

Комбинированные методы вакуумно-дугового синтеза твердых и нанокомпозитных сверхтвердых покрытий на основе Tin; Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования; № 12
出版: (2004)