Удаление микрочастиц вакуумно-дугового разряда в процессе ионной имплантации и осаждения покрытия за счет применения короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения (анализ экспериментальных результатов); Известия вузов. Физика; Т. 54, № 11/2 (приложение)
| Parent link: | Известия вузов. Физика/ Министерство общего и профессионального образования Российской Федерации ; Томский Госуниверситет.— , 1958- Т. 54, № 11/2 (приложение).— 2011.— C. 137-141 |
|---|---|
| Other Authors: | , , , , , |
| Summary: | Рассматривается несколько физич. механизмов, обеспечивающих уменьшение плотности микрочастиц и трансформации их размеров и формы при применении короткоимпульсного ВЧ-потенциала смещения. Эффект отражения в электрич. поле разделения заряда вблизи потенциальной поверхности связан с наиболее низкоэнергитичными микрочастицами за счет накопления на них отрицат. заряда в плазме. Предположительно имеет место отражение микрочастиц, получивших значительный отрицат. заряд уже на потенциальной поверхности. Процессы разогрева микрочастиц, трансформации их размеров и формы определяются электрич. полем на поверхности, приводящим к появлению тока автоэлектронной эмиссии |
| Language: | Russian |
| Published: |
2011
|
| Subjects: | |
| Format: | Book Chapter |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=506091 |