Text this: Удаление микрочастиц вакуумно-дугового разряда в процессе ионной имплантации и осаждения покрытия за счет применения короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения (анализ экспериментальных результатов); Известия вузов. Физика; Т. 54, № 11/2 (приложение)