Удаление микрочастиц вакуумно-дугового разряда в процессе ионной имплантации и осаждения покрытия за счет применения короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения (анализ экспериментальных результатов); Известия вузов. Физика; Т. 54, № 11/2 (приложение)

Podrobná bibliografie
Parent link:Известия вузов. Физика/ Министерство общего и профессионального образования Российской Федерации ; Томский Госуниверситет.— , 1958-
Т. 54, № 11/2 (приложение).— 2011.— C. 137-141
Další autoři: Рябчиков А. И. Александр Ильич, Сивин Д. О. Денис Олегович, Степанов И. Б. Игорь Борисович, Ананьин П. С. Петр Семенович, Дектярев С. В. Сергей Валентинович, Шулепов И. А. Иван Анисимович
Shrnutí:Рассматривается несколько физич. механизмов, обеспечивающих уменьшение плотности микрочастиц и трансформации их размеров и формы при применении короткоимпульсного ВЧ-потенциала смещения. Эффект отражения в электрич. поле разделения заряда вблизи потенциальной поверхности связан с наиболее низкоэнергитичными микрочастицами за счет накопления на них отрицат. заряда в плазме. Предположительно имеет место отражение микрочастиц, получивших значительный отрицат. заряд уже на потенциальной поверхности. Процессы разогрева микрочастиц, трансформации их размеров и формы определяются электрич. полем на поверхности, приводящим к появлению тока автоэлектронной эмиссии
Jazyk:ruština
Vydáno: 2011
Témata:
Médium: MixedMaterials Kapitola
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=506091

MARC

LEADER 00000naa2a2200000 4500
001 506091
005 20240209124522.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\prd\176955 
035 |a RU\TPU\prd\77640 
090 |a 506091 
100 |a 20130430a2011 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
200 1 |a Удаление микрочастиц вакуумно-дугового разряда в процессе ионной имплантации и осаждения покрытия за счет применения короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения (анализ экспериментальных результатов)  |f А. И. Рябчиков [и др.] 
330 |a Рассматривается несколько физич. механизмов, обеспечивающих уменьшение плотности микрочастиц и трансформации их размеров и формы при применении короткоимпульсного ВЧ-потенциала смещения. Эффект отражения в электрич. поле разделения заряда вблизи потенциальной поверхности связан с наиболее низкоэнергитичными микрочастицами за счет накопления на них отрицат. заряда в плазме. Предположительно имеет место отражение микрочастиц, получивших значительный отрицат. заряд уже на потенциальной поверхности. Процессы разогрева микрочастиц, трансформации их размеров и формы определяются электрич. полем на поверхности, приводящим к появлению тока автоэлектронной эмиссии 
461 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\prd\191  |t Известия вузов. Физика  |f Министерство общего и профессионального образования Российской Федерации ; Томский Госуниверситет  |d 1958- 
463 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\prd\165427  |t Т. 54, № 11/2 (приложение)  |v C. 137-141  |d 2011 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
701 1 |a Рябчиков  |b А. И.  |c физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1950-  |g Александр Ильич  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\22006 
701 1 |a Сивин  |b Д. О.  |c специалист в области физики плазмы  |c младший научный сотрудник Томского политехнического университета  |f 1978-  |g Денис Олегович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\26465 
701 1 |a Степанов  |b И. Б.  |c физик  |c заведующий лабораторией Томского политехнического университета, доктор технических наук  |f 1968-  |g Игорь Борисович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\26466  |9 12169 
701 1 |a Ананьин  |b П. С.  |c физик  |c старший научный сотрудник Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук  |f 1942-  |g Петр Семенович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\35527 
701 1 |a Дектярев  |b С. В.  |c физик  |c инженер-проектировщик Томского политехнического университета  |f 1957-  |g Сергей Валентинович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\33803 
701 1 |a Шулепов  |b И. А.  |c физик  |c старший научный сотрудник Томского политехнического университета, кандидат физико-математических наук  |f 1954-  |g Иван Анисимович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\28219 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20050209  |g PSBO 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20160630  |g RCR 
942 |c BK