Высокоинтенсивная ионная имплантация - метод формирования мелкодисперсных интерметаллидов в поверхностных слоях металлов; Известия вузов. Физика; Т. 47, № 9
| Parent link: | Известия вузов. Физика/ Министерство общего и профессионального образования Российской Федерации ; Томский Госуниверситет.— , 1958- Т. 47, № 9.— 2004.— С. 44-52 |
|---|---|
| Altres autors: | , , , , , , , , |
| Sumari: | Представлены результаты эксперим. исследования микроструктуры и фазового состава поверхностных ионно-легированных слоев никеля, титана и железа, сформированных в условиях высокоинтенсивной имплантации ионов алюминия. Установлено, что ионная имплантация алюминия в высокоинтенсивном режиме позволяет формировать в поверхн. слоях толщиной до 200 нм мелкодисперсные интерметаллидные фазы Me[3]Al (Me=Ni, Ti, Fe) и MeAl (Ni, Ti), а также твердые растворы переменного по глубине состава. Показано, что средний размер зерен интерметаллидных фаз, образующихся в ионно-легированных поверхн. слоях, составляет 20-80 нм. Установлены области локализации сформированных фаз по глубине имплантированных слоев |
| Idioma: | rus |
| Publicat: |
2004
|
| Col·lecció: | Формирование, особенности дефектных субструктур и свойства высокоэнергетических состояний в металлических материалах |
| Matèries: | |
| Format: | Capítol de llibre |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=506083 |
| Sumari: | Представлены результаты эксперим. исследования микроструктуры и фазового состава поверхностных ионно-легированных слоев никеля, титана и железа, сформированных в условиях высокоинтенсивной имплантации ионов алюминия. Установлено, что ионная имплантация алюминия в высокоинтенсивном режиме позволяет формировать в поверхн. слоях толщиной до 200 нм мелкодисперсные интерметаллидные фазы Me[3]Al (Me=Ni, Ti, Fe) и MeAl (Ni, Ti), а также твердые растворы переменного по глубине состава. Показано, что средний размер зерен интерметаллидных фаз, образующихся в ионно-легированных поверхн. слоях, составляет 20-80 нм. Установлены области локализации сформированных фаз по глубине имплантированных слоев |
|---|