Высокоинтенсивная ионная имплантация - метод формирования мелкодисперсных интерметаллидов в поверхностных слоях металлов

Bibliographic Details
Parent link:Известия вузов. Физика/ Министерство общего и профессионального образования Российской Федерации ; Томский Госуниверситет.— , 1958-
Т. 47, № 9.— 2004.— С. 44-52
Other Authors: Шаркеев Ю. П. Юрий Петрович, Рябчиков А. И. Александр Ильич, Козлов Э. В., Курзина И. А. Ирина Александровна, Степанов И. Б. Игорь Борисович, Божко И. А. Ирина Александровна, Калашников М. П. Марк Петрович, Фортуна С. В., Сивин Д. О. Денис Олегович
Summary:Представлены результаты эксперим. исследования микроструктуры и фазового состава поверхностных ионно-легированных слоев никеля, титана и железа, сформированных в условиях высокоинтенсивной имплантации ионов алюминия. Установлено, что ионная имплантация алюминия в высокоинтенсивном режиме позволяет формировать в поверхн. слоях толщиной до 200 нм мелкодисперсные интерметаллидные фазы Me[3]Al (Me=Ni, Ti, Fe) и MeAl (Ni, Ti), а также твердые растворы переменного по глубине состава. Показано, что средний размер зерен интерметаллидных фаз, образующихся в ионно-легированных поверхн. слоях, составляет 20-80 нм. Установлены области локализации сформированных фаз по глубине имплантированных слоев
Published: 2004
Series:Формирование, особенности дефектных субструктур и свойства высокоэнергетических состояний в металлических материалах
Subjects:
Format: Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=506083