Образование центров E4 (Ec - 0,76 эВ) в арсениде галлия; Известия вузов. Физика; Т. 45, № 2

Библиографические подробности
Источник:Известия вузов. Физика.— , 1958-
Т. 45, № 2.— 2002.— С. 3-5
Главный автор: Пешев В. В.
Другие авторы: Суржиков А. П. Анатолий Петрович
Примечания:Исследовались влияние энергии бомбардирующих электронов на скорость образования центров E4 (Ec-0,76 эВ), а также температурные зависимости эффективности образования этих дефектов в нейтральном объеме (НО) и области пространственного заряда (ОПЗ) арсенида галлия n-типа. В качестве образцов использовались диоды с барьером Шотки, полученные напылением титана на эпитаксиальные слои n-GaAs с n=(2-4)×1015 см3. Концентрация центров определялась из спектров НСГУ. Показано, что с увеличением энергии бомбардирующих электронов от 1,3 до 2,2 МэВ количество центров E4 резко возрастает в общем количестве радиационных дефектов. Установлено, что скорость введения центров E4 в ОПЗ не зависит от температуры облучения и существенно больше, чем в HO. В НО скорость введения нелинейно возрасте с увеличением температуры облучения. Предполагается, что центр E4 - комплекс, состоящий из двух элементарных дефектов, созданных в соседних узлах подрешеток Ga и As в едином акте соударения. При этом окончательная конфигурация комплекса формируется в результате взаимодействия этих дефектов, которое зависит от динамики преобразования их начальных зарядовых состояний
Язык:русский
Опубликовано: 2002
Предметы:
Формат: Статья
Запись в KOHA:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=494025

MARC

LEADER 00000naa2a2200000 4500
001 494025
005 20240131163955.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\prd\163528 
035 |a RU\TPU\prd\144445 
090 |a 494025 
100 |a 20121219a2002 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
200 1 |a Образование центров E4 (Ec - 0,76 эВ) в арсениде галлия  |f В. В. Пешев, А. П. Суржиков 
330 |a Исследовались влияние энергии бомбардирующих электронов на скорость образования центров E4 (Ec-0,76 эВ), а также температурные зависимости эффективности образования этих дефектов в нейтральном объеме (НО) и области пространственного заряда (ОПЗ) арсенида галлия n-типа. В качестве образцов использовались диоды с барьером Шотки, полученные напылением титана на эпитаксиальные слои n-GaAs с n=(2-4)×1015 см3. Концентрация центров определялась из спектров НСГУ. Показано, что с увеличением энергии бомбардирующих электронов от 1,3 до 2,2 МэВ количество центров E4 резко возрастает в общем количестве радиационных дефектов. Установлено, что скорость введения центров E4 в ОПЗ не зависит от температуры облучения и существенно больше, чем в HO. В НО скорость введения нелинейно возрасте с увеличением температуры облучения. Предполагается, что центр E4 - комплекс, состоящий из двух элементарных дефектов, созданных в соседних узлах подрешеток Ga и As в едином акте соударения. При этом окончательная конфигурация комплекса формируется в результате взаимодействия этих дефектов, которое зависит от динамики преобразования их начальных зарядовых состояний 
461 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\prd\191  |t Известия вузов. Физика  |d 1958- 
463 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\prd\77221  |t Т. 45, № 2  |v С. 3-5  |d 2002 
610 1 |a труды учёных ТПУ 
700 1 |a Пешев  |b В. В. 
701 1 |a Суржиков  |b А. П.  |c физик  |c профессор Томского политехнического университета, доктор физико-математических наук  |f 1951-  |g Анатолий Петрович  |3 (RuTPU)RU\TPU\pers\22010  |9 9307 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20050209  |g PSBO 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20121219  |g RCR 
942 |c BK