Контроль параметров омических контактов непосредственно в процессе их отжига; Вестник науки Сибири; № 1 (2)

מידע ביבליוגרפי
Parent link:Вестник науки Сибири: электронный научный журнал/ Томский политехнический университет (ТПУ).— , 2011-.— 2226-0064
№ 1 (2).— 2012.— [С. 109-114]
מחברים אחרים: Дохтуров В. В. Всеволод Всеволодович, Смирнов С. В. Серафим Всеволодович, Юрченко А. В. Алексей Васильевич, Юрченко В. И. Василий Иванович
סיכום:Заглавие с титульного листа
Проведен анализ процесса отжига омических контактов к полупроводниковым структурам на основе арсенида галлия и его твердых растворов с контролем сопротивления непосредственно в процессе отжига. Приведена эмпирическая формула зависимости приведенного поверхностного сопротивления от температуры. Представлена физическая модель формирования омических контактов.
שפה:רוסית
יצא לאור: 2012
סדרה:Инженерные науки
נושאים:
גישה מקוונת:http://earchive.tpu.ru/handle/11683/15928
פורמט: אלקטרוני Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=478732
תיאור
תיאור פיזי:1 файл (952 Кб)
סיכום:Заглавие с титульного листа
Проведен анализ процесса отжига омических контактов к полупроводниковым структурам на основе арсенида галлия и его твердых растворов с контролем сопротивления непосредственно в процессе отжига. Приведена эмпирическая формула зависимости приведенного поверхностного сопротивления от температуры. Представлена физическая модель формирования омических контактов.