Компьютерное моделирование нанотехнологий, наноматериалов и наноструктур. Математическое моделирование фотолитографических процессов и процессов электронной литографии при создании субмикронных структур и структур с нанометровыми размерами. Курс лекций
| Main Author: | |
|---|---|
| Summary: | Рекомендовано редакционно-издательским советом университета Курс лекций описывает основные математические модели фотолитографии и электронной литографии, используемых при создании субмикронных структур. Приведены модели отдельных процессов фотолитографии: формирование изображения в фоторезисте, экспонирование, травление фоторезиста. Показаны ограничения, которые накладываются на процесс фотолитографии. Приведена теория электронной эмиссии, используемая для моделирования формирования электронного пучка. Описан эффект близости, который вносит ограничения в точность формирования изображения при электронной литографии. Показаны способы коррекции эффекта близости. Предназначен для студентов, обучающихся в магистратуре по направлению 210100 «Электроника и наноэлектроника». Книга из коллекции МИСИС - Инженерно-технические науки |
| Published: |
Москва, МИСИС, 2013
|
| Subjects: | |
| Online Access: | http://e.lanbook.com/books/element.php?pl1_id=47470 https://e.lanbook.com/img/cover/book/47470.jpg |
| Format: | Electronic Book |
