Элионная теория в микро- и наноиндустрии.Ускоренные ионы
| Main Author: | |
|---|---|
| Other Authors: | , , |
| Summary: | Рекомендовано редакционно-издательским советом университета В учебном пособии рассматриваются в основном практические результаты по изменению параметров приповерхностных слоев материалов электронной техники ионным внедрением примесей. Приводятся результаты по особенностям распределения внедренной примеси в аморфных и кристаллических материалах и их теоретическое обоснование. Анализируются результаты по легированию приповерхностных слоев с использованием так называемых атомов отдачи при ионном внедрении. Соответствует программе курса «Элионная технология в микро- и наноиндустрии». Предназначено для магистров, специализирующихся по направлениям «Электроника и наноэлектроника» и «Нанотехнология и микросистемная техника», и может быть полезно обучающимся по направлению «Наноматериалы». Книга из коллекции МИСИС - Инженерно-технические науки |
| Published: |
Москва, МИСИС, 2012
|
| Subjects: | |
| Online Access: | http://e.lanbook.com/books/element.php?pl1_id=47462 https://e.lanbook.com/img/cover/book/47462.jpg |
| Format: | Electronic Book |
MARC
| LEADER | 00000nam0a2200000 i 4500 | ||
|---|---|---|---|
| 001 | 47462 | ||
| 010 | |a 978-5-87623-556-5 | ||
| 100 | |a 20200604d2012 k y0rusy01020304ca | ||
| 101 | 0 | |a rus | |
| 102 | |a RU | ||
| 105 | |a y j 000zy | ||
| 106 | |a z | ||
| 200 | 1 | |a Элионная теория в микро- и наноиндустрии.Ускоренные ионы |b Электронный ресурс |f Кузнецов Г. Д., Кушхов А. Р., Сергиенко А. А., Харламов Н. А. | |
| 210 | |a Москва |b Москва |c МИСИС |d 2012 | ||
| 215 | |a 128 с. | ||
| 300 | |a Рекомендовано редакционно-издательским советом университета | ||
| 330 | |a В учебном пособии рассматриваются в основном практические результаты по изменению параметров приповерхностных слоев материалов электронной техники ионным внедрением примесей. Приводятся результаты по особенностям распределения внедренной примеси в аморфных и кристаллических материалах и их теоретическое обоснование. Анализируются результаты по легированию приповерхностных слоев с использованием так называемых атомов отдачи при ионном внедрении. Соответствует программе курса «Элионная технология в микро- и наноиндустрии». Предназначено для магистров, специализирующихся по направлениям «Электроника и наноэлектроника» и «Нанотехнология и микросистемная техника», и может быть полезно обучающимся по направлению «Наноматериалы». | ||
| 333 | |a Книга из коллекции МИСИС - Инженерно-технические науки | ||
| 610 | 0 | |a ионная имплантация | |
| 610 | 0 | |a ионное внедрение | |
| 610 | 0 | |a ионы ускоренные | |
| 610 | 0 | |a наноиндустрия | |
| 610 | 0 | |a наноматериалы (технология) | |
| 610 | 0 | |a нанотехнологии | |
| 610 | 0 | |a технология элионная (основы) | |
| 610 | 0 | |a ускоренные ионы | |
| 675 | |a 621.315 | ||
| 686 | |a З 844.1 |2 rubbk | ||
| 700 | 1 | |a Кузнецов |b Г. Д. | |
| 701 | 1 | |a Кушхов |b А. Р. | |
| 701 | 1 | |a Сергиенко |b А. А. | |
| 701 | 1 | |a Харламов |b Н. А. | |
| 801 | 1 | |a RU |b Издательство Лань |c 20200604 |g RCR | |
| 856 | 4 | |u http://e.lanbook.com/books/element.php?pl1_id=47462 | |
| 856 | 4 | 1 | |u https://e.lanbook.com/img/cover/book/47462.jpg |
| 953 | |a https://e.lanbook.com/img/cover/book/47462.jpg | ||