Применение состава остаточных газов в вакуумной камере в процессе осаждения плёнки Ti; Приборы и техника эксперимента; № 3

Применение состава остаточных газов в вакуумной камере в процессе осаждения плёнки Ti; Приборы и техника эксперимента; № 3

Detalhes bibliográficos
Parent link:	Приборы и техника эксперимента/ Российская академия наук.— , 1956-.— 0032-8162 № 3.— 2002.— с. 123-126
Autor principal:	Перекрестов В. И.
Outros Autores:	Кравченко С. Н.
Idioma:	russo
Publicado em:	2002
Colecção:	Лабораторная техника
Assuntos:	остаточные газы вакуумные камеры химически чистые плёнки магнетронное распыление
Formato:	Capítulo de Livro
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=427067

Registos relacionados

Анализ состава остаточных газов в вакуумной камере импульсного ускорителя; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
Por: Флусова Д. С.
Publicado em: (2021)

Оптические характеристики плазмы магнетронного разряда в условиях осаждения оксидов и оксинитридов титана; Современные техника и технологии; Т. 3
Por: Гребнева И. А. Ирина Андреевна
Publicado em: (2010)

Исследование свойств дуги в вакуумной дугогасительной камере при малых расстояниях между контактами; Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]; Т. 317, № 4: Энергетика
Por: Лавринович В. А. Валерий Александрович
Publicado em: (2010)

Временное разрешение вакуумной камеры деления; Приборы и техника эксперимента; № 6
Por: Чукляев С. В.
Publicado em: (2003)

Влияние параметров осаждения на свойства покрытий TiN, наносимых методом магнетронного распыления; Современные техника и технологии; Т. 2
Por: Шпакова Н. Ю.
Publicado em: (2009)

Влияние давления в вакуумной камере на интенсивность излучения ускорителей: [отдельный оттиск]
Por: Власов А. Г.
Publicado em: (Москва, Изд-во Академии наук СССР, 1961)

Система управления установки для плазменного нанесения покрытий "Опал 2"; Современные техника и технологии - СТТ' 2002; Т. 2
Por: Юдаков С. В. Сергей Владимирович
Publicado em: (2002)

The Reactive Deposition of TiO[x] Thin Films; Advanced Materials Research; Vol. 1040 : High Technology: Research and Applications 2014 (HTRA 2014)
Por: Sidelev D. V. Dmitry Vladimirovich
Publicado em: (2014)

Исследование явлений вблизи нуля тока вакуумной дуги; Современные техника и технологии; Т. 1
Por: Хоанг Туан Ань
Publicado em: (2010)

Исследование прямого электрического нагрева при упаривании растворов химически чистых сульфатов меди и никеля: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 05.17.08
Por: Пьянков А. Г. Анатолий Григорьевич
Publicado em: (Томск, [Б. и.], 1980)

Моделирование показаний датчиков электромагнитной индукции и магнитного потока в вакуумной камере токамака КТМ; Физико-технические проблемы в науке, промышленности и медицине (ФТПНПМ-2019)
Por: Зольнов Д. А.
Publicado em: (2019)

Зависимость режимов осаждения оксида титана от параметров источника питания МРС; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
Por: Андреева М. А.
Publicado em: (2016)

Наноматериалы. IV. Тонкие пленки как наноструктурированные системы: [монография]
Por: Белянин А. Ф. Алексей Федорович
Publicado em: (Москва, Техномаш, 2008)

Теория процессов получения чистых металлов, сплавов и интерметаллидов: учебное пособие
Por: Емельянов В. С. Василий Семенович
Publicado em: (Москва, Энергоатомиздат, 1983)

Осаждение сверхтвердых Ti-Si-N-покрытий методом импульсного сильноточного реактивного магнетронного распыления; Журнал технической физики; Т. 86, вып. 2
Publicado em: (2016)

Электрический потенциал тонкого биоактивного покрытия на основе цинк-замещенного гидроксиапатита, полученного на титане методом ВЧ магнетронного распыления; Современные технологии и материалы новых поколений
Por: Просолов К. А. Константин Александрович
Publicado em: (2017)

Formation of the silicon coating on the NiTi substrate by magnetron sputteringi; Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2019)
Por: Luchin A. V.
Publicado em: (2019)

Деградация тонких плёнок Ti при знакопеременном изгибе; Современные техника и технологии; Т. 2
Por: Цао Янь
Publicado em: (2007)

The oxygen-deficient TiO2 films deposited by a dual magnetron sputtering; Vacuum; Vol. 134
Publicado em: (2016)

Физико-механические характеристики ВЧ-магнетронных покрытий на основе серебросодержащего гидроксиапатита; Известия вузов. Физика; Т. 56, № 10
Publicado em: (2013)

Исследование структуры покрытий, сформированных ВЧ-магнетронным распылением мишени из кремнийзамещённого гидроксиапатита; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1
Por: Грубова И. Ю. Ирина Юрьевна
Publicado em: (2009)

Высокочастотное магнетронное распыление как способ получения тонких, сверхупругих, беспористых биопокрытий для медицины; Современные техника и технологии; Т. 1
Por: Сурменев Р. А. Роман Анатольевич
Publicado em: (2007)

Физико-химические основы очистки металлов и полупроводниковых материалов: учебное пособие
Por: Беляев А. И. Анатолий Иванович
Publicado em: (Москва, Изд-во МИСиП, 1965)

Справочник по вакуумной технике и технологиям: пер. с англ.
Publicado em: (Москва, Техносфера, 2011)

Investigating Thin Ti–O–N Films Deposited via Reactive Magnetron Sputtering; Bulletin of the Russian Academy of Sciences: Physics; Vol. 82, iss. 9
Por: Boytsova E. L. Elena Lvovna
Publicado em: (2018)

Магнетронное осаждение просветляющих слоев в низкоэмиссионном покрытии типа TiO₂-Cu-TiO₂; Известия вузов. Физика; Т. 56, № 11/3
Publicado em: (2013)

Влияние параметров магнетронного распыления на микроструктуру и механические свойства покрытий Ti-Al-Ta-N; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
Por: Гаранин Ю. А.
Publicado em: (2022)

Targets of deuterides TiD2, ZrD2, NbD, and CrD2 with different structures used in experiments on the study of pd and dd reactions at astrophysical energies; Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section A: Accelerators, Spectrometers, Detectors and Associated Equipment; Vol. 810
Publicado em: (2016)

Влияние процесса распыления на структуру ВЧ-магнетронных тонких пленок; Перспективы развития фундаментальных наук
Por: Шаронова А. А. Анна Александровна
Publicado em: (2013)

Диод Шоттки на основе GaAs: технология получения и диагностика электронное учебно-методическое пособие
Por: Дорохин М. В.
Publicado em: (Нижний Новгород, ННГУ им. Н. И. Лобачевского, 2013)

Моделирование тепломассопереноса древесины при нагреве в камере с пониженным давлением; Современные техника и технологии; Т. 3
Por: Горешнев М. А. Максим Алексеевич
Publicado em: (2010)

Thin hydroxyapatite coating on AZ91D magnesium alloy fabricated via RF-magnetron sputtering; Физико-технические проблемы в науке, промышленности и медицине
Por: Melnikov E. S. Evgenii Sergeevich
Publicado em: (2015)

Растворение in vitro, структурные и электрокинетические характеристики оксинитридных покрытий титана, полученных методом реактивного магнетронного распыления; Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования; № 3
Publicado em: (2016)

Программное обеспечение для системы управления процессом прогрева вакуумной камеры термоядерной установки токамак КТМ; Современные техника и технологии; Т. 2
Por: Лю М. И.
Publicado em: (2007)

Физико-химические основы очистки металлов и полупроводниковых материалов: учебное пособие
Por: Беляев А. И. Анатолий Иванович
Publicado em: (Москва, Металлургия, 1973)

The application of an assisting gas plasma generator for low-temperature magnetron sputtering of Ti-C-Mo-S antifriction coatings on titanium alloys; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 652 : Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2015)
Publicado em: (2015)

Исследование молекулярного и элементного состава покрытий, полученных ВЧ-магнетронным распылением мишени из кремнийзамещённого гидроксиапатита; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1
Por: Конищев М. Е. Максим Евгеньевич
Publicado em: (2009)

Электрический пробой и электролюминесценция пленок ZnS:Mn, полученных высокочастотным магнетронным распылением: автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук
Por: Жигальский А. А. Александр Анатольевич
Publicado em: (Томск, Изд-во ТУСУР, 1997)

Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии
Por: Берлин Е. В. Евгений Владимирович
Publicado em: (Москва, Техносфера, 2010)

Моделирование процесса магнетронного осаждения хрома при планетарном вращении подложки; Перспективы развития фундаментальных наук; Т. 1 : Физика
Por: Оруджов Э. Э.
Publicado em: (2023)