Влияние точечных дефектов на активационные процессы в полуизолирующем GaAs, облученном ионами [Si28]

Bibliographic Details
Parent link:Известия вузов. Физика/ Министерство общего и профессионального образования Российской Федерации ; Томский Госуниверситет.— , 1958-.— 0021-3411
Т. 47, № 3.— 2004.— с. 59-65
Main Author: Ардышев М. В.
Other Authors: Ардышев В. М.
Published: 2004
Series:Физика полупроводников и диэлектриков
Subjects:
Format: Book Chapter
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=420039

MARC

LEADER 00000naa2a2200000 4500
001 420039
005 20231101073326.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\prd\77501 
035 |a RU\TPU\prd\29028 
090 |a 420039 
100 |a 20100301a2004 k y0rusy50 ca 
101 0 |a rus 
102 |a RU 
200 1 |a Влияние точечных дефектов на активационные процессы в полуизолирующем GaAs, облученном ионами [Si28]  |f М. В. Ардышев, В. М. Ардышев 
225 1 |a Физика полупроводников и диэлектриков 
320 |a Библиогр.: 14 назв. 
461 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\prd\191  |x 0021-3411  |t Известия вузов. Физика  |f Министерство общего и профессионального образования Российской Федерации ; Томский Госуниверситет  |d 1958- 
463 1 |0 (RuTPU)RU\TPU\prd\77490  |t Т. 47, № 3  |v с. 59-65  |d 2004 
610 1 |a точечные дефекты 
610 1 |a слоевая концентрация 
610 1 |a концентрационный профиль 
610 1 |a подвижность 
610 1 |a электроны 
610 1 |a ионнолегированные слои 
610 1 |a радиационный отжиг 
610 1 |a полуизолирующие материалы 
610 1 |a пары Френкеля 
610 1 |a эксперименты 
675 |a 621.785.3:669.782  |v 3 
700 1 |a Ардышев  |b М. В. 
701 1 |a Ардышев  |b В. М. 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20041020  |g PSBO 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20101029  |g RCR 
942 |c BK