| Summary: | Trace Analysis of Semiconductor Materials - это руководство, посвященное процедурам ультра-трассового анализа. В этой книге обсуждаются шесть различных методов анализа следов. Эти методы являются наиболее распространенными и могут быть применены к различным проблемам по сравнению с другими методами. Каждая из четырех глав в основном включает введение в принципы и общие положения. Затем кратко обсуждается теоретическая основа рассматриваемой техники. Объясняется практическое применение методов и различных приборов. Затем обсуждаются приложения для анализа следов, относящиеся к полупроводниковым материалам. В главе 1 обсуждается радиохимическая практика, анализ полупроводниковых материалов, методы разделения, несколько качественных радиохимических схем, процедуры радиохимической очистки и несколько ранее сообщенных исследований. Глава 2 охватывает эмиссионную спектроскопию, включая ее потенциал для будущих применений. Обсуждения в главе 3 объясняют преимущества каждого из четырех масс-спектрометрических методов, а именно: метод разбавления изотопов, полное термическое испарение, метод вакуумной искры и метод ионной бомбардировки. Глава 4 посвящена абсорбционным, флуоресцентным и полярографическим методам, используемым в общем анализе следов, включая примеры применения полупроводниковых материалов и другие проблемы, возникающие при введении определенных примесей в испытуемый образец. Данная монография будет полезна исследователям в области ультра-трассового анализа, ядерной физики и аналитической химии. |
|---|
