Исследование влияния технологических параметров системы Ga-AsCl3-H2 - лигатура на рост и свойства эпитаксиальных структур GaAs для СВЧ-приборов: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 05.12.11

Bibliografiset tiedot
Päätekijä: Чижевич Л. А.
Yhteisötekijät: Томский политехнический институт, Научно-исследовательский институт полупроводниковых приборов
Muut tekijät: Маслов В. Н. (научный руководитель), Ермолаев В. А.
Yhteenveto:For_staff_use
Kieli:venäjä
Julkaistu: Томск, [Б. и.], 1974
Aiheet:
Aineistotyyppi: Kirja
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=352262

Samankaltaisia teoksia