Исследование влияния некоторых фактров на получение и применение диэлектрических подложек с особо высоким классом чистоты обработки для пленочных микросхем: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук

Bibliographic Details
Main Author:	Шкаруппо Т. П. Татьяна Петровна
Corporate Author:	Новосибирский институт инженеров геодезии, аэрофотосъемки и картографии
Other Authors:	Сас Р. И. Раиса Ивановна (научный руководитель)
Summary:	For_staff_use
Language:	Russian
Published:	Новосибирск, [Б. и.], 1973
Subjects:	Химические вещества,чистые > Получение пленочные микросхемы диэлектрические подложки изготовление применение материалы испытание стеклокристаллические подложки флюорит термообработка полировка чистота скорость окисляющие реагенты стеклянные подложки кварцевые подложки кварцевые заготовки резка пластины диссертации
Format:	Book
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=352248

Similar Items