Developments in Surface Contamination and Cleaning: Particle Deposition, Control and Removal

Detalhes bibliográficos
Outros Autores: Rajiv Kohli (редактор), Mittal K. L.
Resumo:Заглавие с титульного экрана
Режим доступа: из корпоративной сети ТПУ
Idioma:inglês
Publicado em: Amsterdam, Elsevier, 2010
Assuntos:
Acesso em linha:http://www.lib.tpu.ru/fulltext2/m/2016/science_book/Developments%20in%20Surface%20%20Contamination(2).pdf
Formato: Recurso Electrónico Livro
KOHA link:https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=314916

MARC

LEADER 00000nlm0a2200000 4500
001 314916
005 20231102002727.0
035 |a (RuTPU)RU\TPU\book\340348 
035 |a RU\TPU\book\339330 
090 |a 314916 
100 |a 20160220d2010 k y0engy50 ba 
101 0 |a eng 
102 |a NL 
105 |a a z 001zy 
135 |a drcn ---uucaa 
200 1 |a Developments in Surface Contamination and Cleaning  |b Electronic resource  |e Particle Deposition, Control and Removal  |f eds. Rajiv Kohli, K. L. Mittal  |v Vol. 2 
203 |a Text  |c electronic 
210 |a Amsterdam  |c Elsevier  |d 2010 
230 |a 1 компьютерный файл (pdf; 11 Mb) 
300 |a Заглавие с титульного экрана 
333 |a Режим доступа: из корпоративной сети ТПУ 
337 |a Adobe Reader 
606 1 |a Промышленная экология  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\subj\52249  |9 70735 
606 1 |a Электроника промышленная  |2 stltpush  |3 (RuTPU)RU\TPU\subj\20336  |9 45445 
610 1 |a электронный ресурс 
610 1 |a разработки 
610 1 |a поверхностное загрязнение 
610 1 |a очистка 
610 1 |a загрязняющие вещества 
610 1 |a поверхности 
610 1 |a загрязнения 
610 1 |a полупроводниковая электроника 
610 1 |a частицы 
610 1 |a удаление 
675 |a 504.064  |v 3 
675 |a 621.38  |v 3 
702 0 |a Rajiv Kohli  |4 340 
702 1 |a Mittal  |b K. L.  |4 340 
801 1 |a RU  |b 63413507  |c 20131216 
801 2 |a RU  |b 63413507  |c 20160615  |g RCR 
856 4 |u http://www.lib.tpu.ru/fulltext2/m/2016/science_book/Developments%20in%20Surface%20%20Contamination(2).pdf 
942 |c CF