|
|
|
|
| LEADER |
00000nam0a2200000 4500 |
| 001 |
306270 |
| 005 |
20231102001858.0 |
| 035 |
|
|
|a (RuTPU)RU\TPU\book\331547
|
| 090 |
|
|
|a 306270
|
| 100 |
|
|
|a 20151005d1977 m y0rusy50 ca
|
| 101 |
0 |
|
|a rus
|
| 102 |
|
|
|a RU
|
| 105 |
|
|
|a a j 001zy
|
| 200 |
1 |
|
|a Технология прроизводства интегральных микросхем
|e учебное пособие для вузов
|
| 210 |
|
|
|a Москва
|c Энергия
|d 1977
|
| 215 |
|
|
|a 375 с.
|c ил.
|
| 320 |
|
|
|a Библиогр.: с. 364-366
|
| 320 |
|
|
|a Предм. указ.: с. 367-370
|
| 606 |
1 |
|
|a Интегральные микросхемы,программируемые логические
|2 stltpush
|3 (RuTPU)RU\TPU\subj\38052
|9 58766
|
| 610 |
1 |
|
|a учебные пособия
|
| 610 |
1 |
|
|a производство
|
| 610 |
1 |
|
|a технология
|
| 610 |
1 |
|
|a параметры
|
| 610 |
1 |
|
|a анализ
|
| 610 |
1 |
|
|a методы
|
| 610 |
1 |
|
|a вакуумное испарение
|
| 610 |
1 |
|
|a конденсация
|
| 610 |
1 |
|
|a осаждение
|
| 610 |
1 |
|
|a химические методы
|
| 610 |
1 |
|
|a адсорбция
|
| 610 |
1 |
|
|a слои
|
| 610 |
1 |
|
|a зарождение
|
| 610 |
1 |
|
|a рост
|
| 610 |
1 |
|
|a эпитаксиальные процессы
|
| 610 |
1 |
|
|a ионное внедрение
|
| 610 |
1 |
|
|a фотолитография
|
| 610 |
1 |
|
|a подложки
|
| 610 |
1 |
|
|a гибридные интегральные схемы
|
| 610 |
1 |
|
|a тонкопленочные конденсаторы
|
| 610 |
1 |
|
|a толстопленочная технология
|
| 610 |
1 |
|
|a полупроводниковые микросхемы
|
| 610 |
1 |
|
|a сборка
|
| 610 |
1 |
|
|a сборка
|
| 610 |
1 |
|
|a учебные пособия
|
| 675 |
|
|
|a 621.382.049.77(075.8)
|v 3
|
| 700 |
|
1 |
|a Черняев
|b В. Н.
|g Владимир Николаевич
|
| 702 |
|
1 |
|a Васенков
|b А. А.
|4 340
|
| 801 |
|
1 |
|a RU
|b 63413507
|c 20151005
|
| 801 |
|
2 |
|a RU
|b 63413507
|c 20200304
|g RCR
|
| 942 |
|
|
|c BK
|
