Вып. 5; Активируемые процессы технологии микроэлектроники

Вып. 5; Активируемые процессы технологии микроэлектроники

Бібліографічні деталі
Parent link:	Активируемые процессы технологии микроэлектроники: междуведомственный тематический научный сборник/ Таганрогский радиотехнический институт (ТРТИ). Вып. 5.— , 1975-1986.— 0320-4502
Мова:	Російська
Опубліковано:	1979
Предмети:	Микроэлектронные схемы > Производство дислокации примеси диффузия упругие напряжения легированные пленки осаждение воспроизводимость мышьяк кремний слои электрофизические свойства термообработка имплантация ионно-лучевая обработка
Формат:	Книга
KOHA link:	https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=294218

Схожі ресурси

Вып. 6; Активируемые процессы технологии микроэлектроники
Опубліковано: (1982)

Вып. 4; Активируемые процессы технологии микроэлектроники
Опубліковано: (1978)

Вып. 3; Активируемые процессы технологии микроэлектроники
Опубліковано: (1978)

Вып. 7; Активируемые процессы технологии микроэлектроники
Опубліковано: (1984)

Вып. 8; Активируемые процессы технологии микроэлектроники
Опубліковано: (1986)

Технологический контроль размеров в микроэлектронном производстве
за авторством: Быстров Ю. А. Юрий Александрович
Опубліковано: (Москва, Радио и связь, 1988)

Технология изготовления интегральных микросхем: конспект лекций; Ч. 2
за авторством: Скачков П. С. Павел Сергеевич
Опубліковано: (Москва, Изд-во МГИ, 1984)

Физические явления в технологии микроэлектроники: сборник научных трудов
Опубліковано: (Москва, Изд-во МИЭТ, 1982)

Быстрые термообработки в технологии СБИС
за авторством: Пилипенко В. А. Владимир Александрович
Опубліковано: (Минск, Изд-во Белорусского ГУ, 2004)

Автоматические приборы и оборудование в микроэлектронике: сборник научных трудов
Опубліковано: (Москва, Изд-во МИЭТ, 1981)

Современные тенденции развития САПР интегральных микросхем: сборник научных трудов
Опубліковано: (Москва, Изд-во МИЭТ, 1984)

Неразрушающие методы определения параметров диффузии примеси в твердом теле
за авторством: Бондарь О. Б. Олег Борисович
Опубліковано: (Москва, Машиностроение-1, 2004)

Тонкие нерганические пленки в микроэлектронике
Опубліковано: (Ленинград, Наука, 1972)

Кн. 1; Технология СБИС
Опубліковано: (1986)

Напряжения в имплантированных структурах арсенида галлия; Радиационно-термические эффекты и процессы в неорганических материалах
за авторством: Ардышев М. В.
Опубліковано: (2002)

Ионная имплантация: пер. с нем.
за авторством: Риссел Х.
Опубліковано: (Москва, Наука, 1983)

Зависимость свойств ионно-легированных слоёв GaAs : Si от дозы имплантации после радиационного отжига; Радиационно-термические эффекты и процессы в неорганических материалах
за авторством: Ардышев М. В.
Опубліковано: (2002)

Исследование влияния технологических параметров системы Ga-AsCl3-H2 - лигатура на рост и свойства эпитаксиальных структур GaAs для СВЧ-приборов: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 05.12.11
за авторством: Чижевич Л. А.
Опубліковано: (Томск, [Б. и.], 1974)

Высокоинтенсивная имплантация ионов алюминия в никель и титан; Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]; Т. 307, № 3
Опубліковано: (2004)

Высокоинтенсивная ионная имплантация - метод формирования мелкодисперсных интерметаллидов в поверхностных слоях металлов; Известия вузов. Физика; Т. 47, № 9
Опубліковано: (2004)

High Intensity Implantation of Aluminium Ions into Titanium; 7 International conference on modification of materials with particle beams and plasma flows
Опубліковано: (2004)

Ч. 1: Технологические процессы изготовления кремниевых интегральных схем и их моделирование; Технология, конструкции и методы моделирования кремниевых интегральных микросхем
за авторством: Королев М. А. Михаил Александрович
Опубліковано: (2009)

Ионно-активированная кристаллизация пленок
за авторством: Лютович А. С.
Опубліковано: (Ташкент, Фан, 1982)

Высокоинтенсивная низкоэнергетическая имплантация ионов азота; Физическая мезомеханика; Т. 5, № 1
за авторством: Белый А. В.
Опубліковано: (2002)

Математическое моделирование начальной стадии процесса ионной имплантации; Известия вузов. Физика; Т. 58, № 6-2
за авторством: Парфёнова Е. С. Елена Сергеевна
Опубліковано: (2015)

Т. 5 : Ионно-пучковая технология; Физические основы лазерной и пучковой технологии
Опубліковано: (1989)

Инженерия поверхностей конструкционных материалов с использованием плазменных и пучковых технологий
за авторством: Белый А. В.
Опубліковано: (Минск, Белорусская наука, 2017)

Ионно-электронно-плазменная модификация системы "покрытие (TiZrCu)\подложка (Al-(22-24)%Si)"; Современные технологии и материалы новых поколений
Опубліковано: (2017)

Исследование закономерностей накопления и диффузии титана в кремнии при импульсно-периодической имплантации высокоинтенсивным пучком ионов; Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE-2024)
Опубліковано: (2024)

Ионная имплантация
за авторством: Комаров Ф. Ф. Фадей Фадеевич
Опубліковано: (Минск, Унiверсiтэцкае, 1994)

Modification of stainless steel based on synergistic of low-energy high-intensity ion implantation and high-current electron beam impact on the surface layer; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 2064 : Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2021)
Опубліковано: (2021)

Физико-химические процессы в технологии РЭА: учебник для вузов
за авторством: Черняев В. Н. Владимир Николаевич
Опубліковано: (Москва, Высшая школа, 1987)

The Vacancy Generation Influence on the Initial Stage of Ion Implantation; Applied Mechanics and Materials; Vol. 1097 : Nanomaterials and Surface Technologies, Materials Applications
за авторством: Parfenova E. S. Elena Sergeevna
Опубліковано: (2015)

Исследование ионно - реактивного метода осаждения пленок нитрида кремния: Диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук
за авторством: Смирнова К. И.
Опубліковано: (Томск, 1971)

Структура компонентов БИС
за авторством: Эдельман Ф. Л. Феликс Леонидович
Опубліковано: (Новосибирск, Наука, 1980)

Structural-Phase State and Mechanical Properties of the Surface Layer of the Copper Modified by Zirconium Ions; AIP Conference Proceedings; Vol. 2167 : Advanced Materials with Hierarchical Structure for New Technologies and Reliable Structures 2019 (AMHS'19)
Опубліковано: (2019)

Элионная технология в микро- и наноиндустрии: курс лекций
за авторством: Кузнецов Г. Д. Геннадий Дмитриевич
Опубліковано: (Москва, Изд-во МИСиС, 2008)

Electron-ion-plasma modification of the structure and properties of commercial steels; IOP Conference Series: Materials Science and Engineering; Vol. 168 : Radiation-Thermal Effects and Processes in Inorganic Materials (RTEP2016)
Опубліковано: (2017)

Разработка технологии улучшения триботехнических свойств титановых сплавов методом ионной имплантации: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; Спец. 05.03.01.
за авторством: Байбарацкая М. Ю. Марина Юрьевна
Опубліковано: (Омск, 1992)

Ч. 1: Технологические процессы изготовления кремниевых интегральных схем и их моделирование; Технология, конструкции и методы моделирования кремниевых интегральных микросхем
Опубліковано: (2007)