Вып. 5; Активируемые процессы технологии микроэлектроники
| Parent link: | Активируемые процессы технологии микроэлектроники: междуведомственный тематический научный сборник/ Таганрогский радиотехнический институт (ТРТИ). Вып. 5.— , 1975-1986.— 0320-4502 |
|---|---|
| Jazyk: | ruština |
| Vydáno: |
1979
|
| Témata: | |
| Médium: | Kniha |
| KOHA link: | https://koha.lib.tpu.ru/cgi-bin/koha/opac-detail.pl?biblionumber=294218 |
Podobné jednotky
Вып. 6; Активируемые процессы технологии микроэлектроники
Vydáno: (1982)
Vydáno: (1982)
Вып. 4; Активируемые процессы технологии микроэлектроники
Vydáno: (1978)
Vydáno: (1978)
Вып. 3; Активируемые процессы технологии микроэлектроники
Vydáno: (1978)
Vydáno: (1978)
Вып. 7; Активируемые процессы технологии микроэлектроники
Vydáno: (1984)
Vydáno: (1984)
Вып. 8; Активируемые процессы технологии микроэлектроники
Vydáno: (1986)
Vydáno: (1986)
Технологический контроль размеров в микроэлектронном производстве
Autor: Быстров Ю. А. Юрий Александрович
Vydáno: (Москва, Радио и связь, 1988)
Autor: Быстров Ю. А. Юрий Александрович
Vydáno: (Москва, Радио и связь, 1988)
Технология изготовления интегральных микросхем: конспект лекций; Ч. 2
Autor: Скачков П. С. Павел Сергеевич
Vydáno: (Москва, Изд-во МГИ, 1984)
Autor: Скачков П. С. Павел Сергеевич
Vydáno: (Москва, Изд-во МГИ, 1984)
Быстрые термообработки в технологии СБИС
Autor: Пилипенко В. А. Владимир Александрович
Vydáno: (Минск, Изд-во Белорусского ГУ, 2004)
Autor: Пилипенко В. А. Владимир Александрович
Vydáno: (Минск, Изд-во Белорусского ГУ, 2004)
Автоматические приборы и оборудование в микроэлектронике: сборник научных трудов
Vydáno: (Москва, Изд-во МИЭТ, 1981)
Vydáno: (Москва, Изд-во МИЭТ, 1981)
Физические явления в технологии микроэлектроники: сборник научных трудов
Vydáno: (Москва, Изд-во МИЭТ, 1982)
Vydáno: (Москва, Изд-во МИЭТ, 1982)
Современные тенденции развития САПР интегральных микросхем: сборник научных трудов
Vydáno: (Москва, Изд-во МИЭТ, 1984)
Vydáno: (Москва, Изд-во МИЭТ, 1984)
Неразрушающие методы определения параметров диффузии примеси в твердом теле
Autor: Бондарь О. Б. Олег Борисович
Vydáno: (Москва, Машиностроение-1, 2004)
Autor: Бондарь О. Б. Олег Борисович
Vydáno: (Москва, Машиностроение-1, 2004)
Тонкие нерганические пленки в микроэлектронике
Vydáno: (Ленинград, Наука, 1972)
Vydáno: (Ленинград, Наука, 1972)
Кн. 1; Технология СБИС
Vydáno: (1986)
Vydáno: (1986)
Ионная имплантация: пер. с нем.
Autor: Риссел Х.
Vydáno: (Москва, Наука, 1983)
Autor: Риссел Х.
Vydáno: (Москва, Наука, 1983)
Зависимость свойств ионно-легированных слоёв GaAs : Si от дозы имплантации после радиационного отжига; Радиационно-термические эффекты и процессы в неорганических материалах
Autor: Ардышев М. В.
Vydáno: (2002)
Autor: Ардышев М. В.
Vydáno: (2002)
Исследование влияния технологических параметров системы Ga-AsCl3-H2 - лигатура на рост и свойства эпитаксиальных структур GaAs для СВЧ-приборов: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; спец. 05.12.11
Autor: Чижевич Л. А.
Vydáno: (Томск, [Б. и.], 1974)
Autor: Чижевич Л. А.
Vydáno: (Томск, [Б. и.], 1974)
Напряжения в имплантированных структурах арсенида галлия; Радиационно-термические эффекты и процессы в неорганических материалах
Autor: Ардышев М. В.
Vydáno: (2002)
Autor: Ардышев М. В.
Vydáno: (2002)
Высокоинтенсивная имплантация ионов алюминия в никель и титан; Известия Томского политехнического университета [Известия ТПУ]; Т. 307, № 3
Vydáno: (2004)
Vydáno: (2004)
Высокоинтенсивная ионная имплантация - метод формирования мелкодисперсных интерметаллидов в поверхностных слоях металлов; Известия вузов. Физика; Т. 47, № 9
Vydáno: (2004)
Vydáno: (2004)
Ч. 1: Технологические процессы изготовления кремниевых интегральных схем и их моделирование; Технология, конструкции и методы моделирования кремниевых интегральных микросхем
Autor: Королев М. А. Михаил Александрович
Vydáno: (2009)
Autor: Королев М. А. Михаил Александрович
Vydáno: (2009)
High Intensity Implantation of Aluminium Ions into Titanium; 7 International conference on modification of materials with particle beams and plasma flows
Vydáno: (2004)
Vydáno: (2004)
Высокоинтенсивная низкоэнергетическая имплантация ионов азота; Физическая мезомеханика; Т. 5, № 1
Autor: Белый А. В.
Vydáno: (2002)
Autor: Белый А. В.
Vydáno: (2002)
Ионно-активированная кристаллизация пленок
Autor: Лютович А. С.
Vydáno: (Ташкент, Фан, 1982)
Autor: Лютович А. С.
Vydáno: (Ташкент, Фан, 1982)
Математическое моделирование начальной стадии процесса ионной имплантации; Известия вузов. Физика; Т. 58, № 6-2
Autor: Парфёнова Е. С. Елена Сергеевна
Vydáno: (2015)
Autor: Парфёнова Е. С. Елена Сергеевна
Vydáno: (2015)
Физико-химические процессы в технологии РЭА: учебник для вузов
Autor: Черняев В. Н. Владимир Николаевич
Vydáno: (Москва, Высшая школа, 1987)
Autor: Черняев В. Н. Владимир Николаевич
Vydáno: (Москва, Высшая школа, 1987)
Т. 5 : Ионно-пучковая технология; Физические основы лазерной и пучковой технологии
Vydáno: (1989)
Vydáno: (1989)
Радиационно-активируемые процессы в кремнии
Vydáno: (Ташкент, Фан, 1977)
Vydáno: (Ташкент, Фан, 1977)
Ионно-электронно-плазменная модификация системы "покрытие (TiZrCu)\подложка (Al-(22-24)%Si)"; Современные технологии и материалы новых поколений
Vydáno: (2017)
Vydáno: (2017)
Modification of stainless steel based on synergistic of low-energy high-intensity ion implantation and high-current electron beam impact on the surface layer; Journal of Physics: Conference Series; Vol. 2064 : Gas Discharge Plasmas and Their Applications (GDP 2021)
Vydáno: (2021)
Vydáno: (2021)
Ионная имплантация
Autor: Комаров Ф. Ф. Фадей Фадеевич
Vydáno: (Минск, Унiверсiтэцкае, 1994)
Autor: Комаров Ф. Ф. Фадей Фадеевич
Vydáno: (Минск, Унiверсiтэцкае, 1994)
Исследование закономерностей накопления и диффузии титана в кремнии при импульсно-периодической имплантации высокоинтенсивным пучком ионов; Energy Fluxes and Radiation Effects (EFRE-2024)
Vydáno: (2024)
Vydáno: (2024)
The Vacancy Generation Influence on the Initial Stage of Ion Implantation; Applied Mechanics and Materials; Vol. 1097 : Nanomaterials and Surface Technologies, Materials Applications
Autor: Parfenova E. S. Elena Sergeevna
Vydáno: (2015)
Autor: Parfenova E. S. Elena Sergeevna
Vydáno: (2015)
Structural-Phase State and Mechanical Properties of the Surface Layer of the Copper Modified by Zirconium Ions; AIP Conference Proceedings; Vol. 2167 : Advanced Materials with Hierarchical Structure for New Technologies and Reliable Structures 2019 (AMHS'19)
Vydáno: (2019)
Vydáno: (2019)
Исследование ионно - реактивного метода осаждения пленок нитрида кремния: Диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук
Autor: Смирнова К. И.
Vydáno: (Томск, 1971)
Autor: Смирнова К. И.
Vydáno: (Томск, 1971)
Структура компонентов БИС
Autor: Эдельман Ф. Л. Феликс Леонидович
Vydáno: (Новосибирск, Наука, 1980)
Autor: Эдельман Ф. Л. Феликс Леонидович
Vydáno: (Новосибирск, Наука, 1980)
Ч. 1: Технологические процессы изготовления кремниевых интегральных схем и их моделирование; Технология, конструкции и методы моделирования кремниевых интегральных микросхем
Vydáno: (2007)
Vydáno: (2007)
Разработка технологии улучшения триботехнических свойств титановых сплавов методом ионной имплантации: диссертация на соискание ученой степени кандидата технических наук; Спец. 05.03.01.
Autor: Байбарацкая М. Ю. Марина Юрьевна
Vydáno: (Омск, 1992)
Autor: Байбарацкая М. Ю. Марина Юрьевна
Vydáno: (Омск, 1992)
Элионная технология в микро- и наноиндустрии: курс лекций
Autor: Кузнецов Г. Д. Геннадий Дмитриевич
Vydáno: (Москва, Изд-во МИСиС, 2008)
Autor: Кузнецов Г. Д. Геннадий Дмитриевич
Vydáno: (Москва, Изд-во МИСиС, 2008)
Electron-ion-plasma modification of the structure and properties of commercial steels; IOP Conference Series: Materials Science and Engineering; Vol. 168 : Radiation-Thermal Effects and Processes in Inorganic Materials (RTEP2016)
Vydáno: (2017)
Vydáno: (2017)
Podobné jednotky
-
Вып. 6; Активируемые процессы технологии микроэлектроники
Vydáno: (1982) -
Вып. 4; Активируемые процессы технологии микроэлектроники
Vydáno: (1978) -
Вып. 3; Активируемые процессы технологии микроэлектроники
Vydáno: (1978) -
Вып. 7; Активируемые процессы технологии микроэлектроники
Vydáno: (1984) -
Вып. 8; Активируемые процессы технологии микроэлектроники
Vydáno: (1986)